[发明专利]一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法

权利要求书

1.一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，包括下列步骤：

(1)将摩尔比为1∶1.0～1∶1.05的化合物(I)与卤化烃(II)在常温下均匀混合；

(2)加入反应釜中，压力0.105～0.25MPa，室温～150℃，时间0.5～20小时，反应结束后，释放釜内压力至常压，冷却，用1/5～4/5体积的乙酸乙酯萃取2～3次，40～80℃减压蒸馏纯化。

所述的化合物(I)选自下列化合物中的一种：

烃基季铵                  羟乙基烃基季铵               烃基锍                 烃基季磷

烃基吡啶                    烃基吡咯                  烃基吡唑                烃基咪唑

其中：R1，R2，R3，R4，R5和R6可以相同，也可以不同，它们分别是H或碳原子数为1-8的烃基。

所述的卤化烃(II)的通式为R-X：

其中：R是碳原子数为1-8的烃基，X是Cl、Br中的一种。

2.根据权利要求1所述的一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，其特征在于：所述离子液体的阳离子为下列一种：

烃基季铵离子           羟乙基烃基季铵离子             烃基锍离子           烃基季磷离子

烃基吡啶离子            烃基吡咯离子                 烃基吡唑离子         烃基咪唑离子

其中：R1，R2，R3，R4，R5和R6可以相同，也可以不同，它们分别是H或碳原子数为1-8的烃基。

3.根据权利要求1所述的一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，其特征在于：所述离子液体的阴离子为Cl^-或Br^-。

4.根据权利要求1或2所述的一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，其特征在于：所述的化合物(I)为N-甲基咪唑、N-甲基吡唑、吡啶、N-甲基吡咯、三乙基胺、三乙基膦、二甲基乙醇胺中的一种。

5.根据权利要求1或3所述的一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，其特征在于：所述的卤化烃(II)为氯代正丁烷、烯丙基氯、溴代正丁烷、溴乙烷、烯丙基氯、氯代正辛烷、溴乙烷、溴代正丁烷、氯代正丁烷中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，其特征在于：步骤(2)所述的反应釜中的压力控制为通过卤代烃的汽化控制压力或通过惰性气体如氮气、二氧化碳控制压力。

7.根据权利要求1-8所述的一种阴离子为卤族离子的离子液体的制备方法，其特征在于：所述的制备方法用于实验室合成或用于工业化生产。