[发明专利]射频功率源系统及使用该射频功率源系统的等离子体反应腔室有效
申请号: | 200710039453.5 | 申请日: | 2007-04-13 |
公开(公告)号: | CN101287327A | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 陈金元;尹志尧;钱学煜;倪图强;饭塚浩 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H05H1/30 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201201上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射频 功率 系统 使用 等离子体 反应 | ||
1. 一种射频功率源系统,包括:
输出具有N个频率的N个射频信号的射频源,其中N是大于1的整数;
合成该N个射频信号的射频功率合成器,以输出一个合成的射频信号;
放大该合成的射频信号的宽带放大器,以提供一个经过放大的射频信号;
接收该经过放大的射频信号的射频功率分离器,以提供具有N个频率的N个经过放大的射频功率信号。
2. 如权利要求1所述的射频功率源系统,进一步包括匹配电路,用以接收该N个经过放大的射频功率信号,并将该N个经过放大的射频功率信号加载到一等离子体反应腔室上。
3. 如权利要求1所述的射频功率源系统,其特征在于:所述射频源包括至少一个振荡器。
4. 如权利要求1所述的射频功率源系统,其特征在于:所述射频源包括至少一个频率合成器。
5. 如权利要求1所述的射频功率源系统,其特征在于:所述射频源进一步包括至少一个倍频器或分频器。
6. 如权利要求2所述的射频功率源系统,进一步包括至少一个切换开关,可将N个频率中的预先设定的两个频率中的某一个选择性地耦合到匹配电路。
7. 如权利要求2所述的射频功率源系统,其特征在于:所述匹配电路包括若干个匹配网络,每一个匹配网络设置为接收N个频率中的一个。
8. 如权利要求2所述的射频功率源系统,其特征在于:N为2,且所述匹配电路包括至少一个匹配网络,设置为可切换地接收所述两个频率中的一个。
9. 如权利要求6所述的射频功率源系统,进一步包括一个并联电容,与该切换开关的输入端相连接。
10. 一种射频功率源系统,包括:
第一射频源,输出具有第一频率的第一射频信号;
第二射频源,输出具有第二频率的第二射频信号;
射频功率合成器,将第一和第二射频信号合成,输出一个合成的射频信号;
宽带放大器,用以放大该合成的射频信号,以提供一个经过放大的信号;
射频功率分离器,用以接收该经过放大的信号,并提供第一放大射频功率和第二放大射频功率;
匹配电路,用以接收该第一放大射频功率和该第二放大射频功率。
11. 如权利要求10所述的射频功率源,其特征在于:所述匹配电路包括一个接收第一放大射频功率的第一匹配网络,和一个接收第二放大射频功率的第二匹配网络。
12. 如权利要求10所述的射频功率源,其特征在于:所述射频功率分离器包括至少一个滤波器。
13. 如权利要求10所述的射频功率源,其特征在于:所述射频功率分离器包括至少一个低通滤波器和一个带通滤波器。
14. 如权利要求10所述的射频源,其特征在于:所述第一射频源包括一个频率合成器。
15. 如权利要求14所述的射频源,其特征在于:所述第二射频源包括一个倍频器或分频器。
16. 如权利要求10所述的射频源,进一步包括用以控制激励所述第一射频源和第二射频源的控制器。
17. 如权利要求10所述的射频功率源,进一步包括至少一个切换开关与该射频功率分离器相连接,该切换开关具有一输入端接收该经过放大的信号,并且还包括至少一个并联电容与该输入端连接。
18. 一种等离子体反应腔室,包括:
真空反应腔室,用来在其中产生等离子体;
射频功率源,可提供频率为f1的射频功率;
射频源,可以输出具有N个不同频率的N个射频信号,其中N是大于1的整数;
合成该N个射频信号的射频功率合成器,以输出一个合成的射频信号;
放大该合成的射频信号的宽带放大器,以提供一个经过放大的射频信号;
接收该经过放大的射频信号的射频功率分离器,以提供具有N个频率的N个经过放大的射频功率信号;
匹配电路,用以将该频率f1以及该N个频率中的至少一个频率的射频功率耦合到该真空反应腔室中。
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