[发明专利]一种清洗等离子刻蚀残留物的清洗液无效
申请号: | 200710039663.4 | 申请日: | 2007-04-19 |
公开(公告)号: | CN101290482A | 公开(公告)日: | 2008-10-22 |
发明(设计)人: | 刘兵;彭洪修;曾浩 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 等离子 刻蚀 残留物 | ||
1.一种清洗等离子刻蚀残留物的清洗液,其特征在于含有:柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液、高分子腐蚀抑制剂、抗冻剂、氟化物和溶剂。
2.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液在清洗液中的含量为质量百分比15%~56%。
3.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的柠檬酸盐为柠檬酸与无机碱或季胺氢氧化物形成的盐。
4.如权利要求3所述的清洗液,其特征在于:所述的无机碱为氨水或氢氧化钾;所述的季胺氢氧化物为四甲基氢氧化铵或四乙基氢氧化铵。
5.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液中柠檬酸和柠檬酸盐的含量为质量百分比5%~60%。
6.如权利要求5所述的清洗液,其特征在于:所述的柠檬酸/柠檬酸盐缓冲水溶液中柠檬酸和柠檬酸盐的含量为质量百分比10%~50%。
7.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的高分子腐蚀抑制剂或抗冻剂的含量为质量百分比0.0001%~10%。
8.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的抗冻剂为多元醇中的一种或多种。
9.如权利要求8所述的清洗液,其特征在于:所述的多元醇为乙二醇、丙三醇或季戊四醇。
10.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的高分子腐蚀抑制剂为含羟基聚合物和含羧基聚合物中的一种或多种。
11.如权利要求10所述的清洗液,其特征在于:所述的含羟基聚合物为含羟基聚醚或聚乙烯醇;所述的含羧基聚合物为含羧基聚醚、聚马来酸酐、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、丙烯酸与马来酸共聚物、苯乙烯与丙烯酸共聚物、苯乙烯与马来酸共聚物、丙烯腈与马来酸共聚物或上述化合物的铵盐、钾盐或钠盐。
12.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的氟化物的含量为质量百分比0.01%~3%。
13.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的氟化物为氟化氢和氟化氢与碱形成的盐中的一种或多种。
14.如权利要求13所述的清洗液,其特征在于:所述的碱为氨水、季胺氢氧化物或醇胺。
15.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的溶剂的含量为质量百分比40%~80%。
16.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醚中的一种或多种。
17.如权利要求16所述的清洗液,其特征在于:所述的亚砜为二甲基亚砜、二乙基亚砜或甲乙基亚砜;所述的砜为甲基砜、乙基砜或环丁砜;所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮或1,3-二乙基-2-咪唑烷酮;所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮;所述的咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮;所述的酰胺为二甲基甲酰胺;所述的醚为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚或二丙二醇单丁醚。
18.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于:所述的清洗液还含有小分子抑制剂。
19.如权利要求18所述的清洗液,其特征在于:所述的小分子抑制剂的含量为小于或等于质量百分比10%。
20.如权利要求18所述的清洗液,其特征在于:所述的小分子抑制剂选自酚类、羧酸类、羧酸酯类、酸酐类、苯并三氮唑类、膦酸类和膦酸酯类缓蚀剂中的一种或多种。
21.如权利要求20所述的清洗液,其特征在于:所述的酚类为苯酚、1,2-二羟基苯酚、对羟基苯酚或连苯三酚;所述的羧酸类为苯甲酸、对氨基苯甲酸、邻苯二甲酸或没食子酸;所述的羧酸酯类为对氨基苯甲酸甲酯、邻苯二甲酸甲酯或没食子酸丙酯;所述的酸酐类为乙酸酐或己酸酐;所述的苯并三氮唑类为苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑或4-羧基苯并三氮唑;所述的磷酸类为1,3-(羟乙基)-2,4,6-三膦酸、氨基三亚甲基膦酸或2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸。
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