[发明专利]一种非破坏性检测衬底表面形貌的方法

权利要求书

1.一种非破坏性检测衬底表面形貌的方法，该衬底表面具有凸起结构及/或凹陷结构，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)提供一平坦衬底、一厚度预选范围以及一具有特定图形的光罩，在该预选范围中选取不同的厚度且在该平坦衬底上分别涂敷所选厚度的光阻，再使用该光罩在该光阻上光刻出该特定图形；(2)测得该不同厚度的光阻所对应的该特定图形的特征尺寸；(3)依据测得的特征尺寸及其对应的光阻厚度绘制出光阻厚度与特征尺寸的关系曲线图，并将该曲线图储存在一数据库中；(4)在待测的衬底上涂敷预选厚度范围中一选定厚度的光阻，再使用一具有多个该特定图形的光罩在该光阻上光刻出该多个特定图形；(5)测得该多个特定图形的特征尺寸；(6)依据所测得的特征尺寸以及数据库中所储存的曲线图得出该待测衬底的表面形貌，其中，该凸起结构的高度及该凹陷结构的深度均小于一预设值，该预设值为100埃。

2.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，在步骤(6)中，当步骤(5)中测到的特征尺寸小于数据库中选定厚度所对应的特征尺寸时，该特定图形覆盖的结构为凸起结构，当步骤(5)中测到的特征尺寸大于数据库中选定厚度所对应的特征尺寸时，该特定图形覆盖的结构为凹陷结构。

3.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，在步骤(6)中，该选定厚度与步骤(5)中测到的特征尺寸在数据库中所对应的光阻厚度的差值即为该凸起结构的高度或该凹陷结构的深度。

4.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，该预设值为100埃。

5.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，该预选厚度范围为3000埃至4000埃。

6.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，在步骤(1)中，以一厚度间隔在该预选厚度范围中选取不同的厚度。

7.如权利要求6所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，该厚度间隔为100埃。

8.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，该选定厚度为3800埃。

9.如权利要求1所述的非破坏性检测衬底表面形貌的方法，其特征在于，该特定图形为边长为0.18微米的正方形。