[发明专利]化学气相沉积设备及炉管有效
| 申请号： | 200710041091.3 | 申请日： | 2007-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101311302A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 李春龙;赵星;赵金柱;李修远 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;H01L21/205;H01L21/365 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李文红 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 设备 炉管 | ||
1.一种化学气相沉积设备，包括沉积室，所述沉积室开有至少一个排气口和至少一个进气口，其特征在于：所述排气口的表面与所述沉积室的内壁表面圆滑相连，以减小沉积物在排气口处所受的应力。
2.如权利要求1所述的沉积设备，其特征在于：所述进气口的表面与沉积室的内壁表面圆滑相连。
3.如权利要求1所述的沉积设备，其特征在于：所述排气口的表面与沉积室的外壁表面圆滑相连。
4.如权利要求1或2或3所述的沉积设备，其特征在于：所述圆滑相连是指形成20°至70°之间的弧度。
5.如权利要求1或2或3所述的沉积设备，其特征在于：所述排气口表面为对称或非对称的椭圆弧状。
6.如权利要求1或2或3所述的沉积设备，其特征在于：所述沉积室包含炉管。
7.一种炉管，所述炉管的侧壁上开有至少一个排气口和至少一个进气口，其特征在于：所述排气口的表面与所述炉管的内壁表面圆滑相连，以减小沉积物在排气口处所受的应力。
8.如权利要求7所述的炉管，其特征在于：所述进气口的表面与所述炉管的内壁表面圆滑相连。
9.如权利要求7所述的炉管，其特征在于：所述排气口的表面与所述炉管的外壁表面圆滑相连。
10.如权利要求7或8或9所述的炉管，其特征在于：所述圆滑相连是指形成20°至70°之间的弧度。
11.如权利要求7或8或9所述的炉管，其特征在于：所述排气口表面为对称或非对称的椭圆弧状。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
