[发明专利]垂直取向模式的液晶显示装置无效
申请号: | 200710041683.5 | 申请日: | 2007-06-06 |
公开(公告)号: | CN101059627A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 徐亮 | 申请(专利权)人: | 上海广电光电子有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/139;G02F1/1362 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人: | 白璧华 |
地址: | 200233上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 垂直 取向 模式 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种液晶显示装置,特别是涉及一种垂直取向模式的液晶显示装置。
背景技术
随着信息社会的发展,人们对显示设备的需求得到了增长。为了满足这种需求,最近几种平板显示设备,如液晶显示装置(LCD)、有机发光(OLED)显示装置、等离子体显示装置(PDP)都得到了迅猛的发展。在平板显示装置当中,液晶显示装置由于其重量低、体积小、能耗低的优点,正在逐步取代冷阴极显示设备。
液晶显示装置主要由相对设置的第一基板、第二基板,以及像夹心饼干一样嵌入在两个基板之间的液晶层组成。目前常用的液晶显示装置显示模式有TN(Twist Nemetic,扭曲向列)、IPS(In Plane Switching,面内开关)和VA(Vertical Alignment,垂直取向)模式。TN型液晶显示装置的主要缺点为视角范围比较窄,IPS模式的液晶显示装置改善了TN的缺点,其视角可以达到170度以上,但是由于其模式是通过液晶分子在平面内转动而实现画面显示,其响应速度慢。
对于垂直取向模式的液晶显示装置,如图1a、图1b所示,在第一、第二基板10和20的内侧均设置有透明导电层11和21,从而可以形成垂直电场;在两层透明导电层11和21之间嵌入液晶层30,液晶层30由负性液晶分子31组成,所谓负性液晶是指液晶分子长轴方向的介电常数小于液晶分子短轴方向的介电常数,如图1a所示,在没有垂直电场作用在液晶分子上的情况下,液晶分子垂直于基板表面取向,如图1b所示当有垂直电场作用在液晶分子上时,由于液晶分子长轴的介电常数较小,所以液晶分子在电场作用下,会发生特定方向的取向,最终垂直于电场方向排列。如上所述,同TN模式相比,VA模式具有高对比度、高视角的优点,但是同面内开关(IPS)模式相比,VA模式的视角特性略差,为了改善垂直取向模式的视角特性,欧洲专利0884626A2公开了一种多区域的垂直取向显示模式(Multi-Domain Vertical Alignment,MVA),要实现这种多区域的垂直配向显示模式需要在第一基板10侧和第二基板20侧制作相应的凸起12或者沟槽22,在MVA显示模式中,如图2所示,液晶分子31被沟槽22或者突起12分为四个域,当施加电场的时候,每个域内的液晶分子的旋转方向均不相同,这样在某个方向进行观察的时候,相对于这个观察方向,各个域内的液晶分子造成的光学延迟也就不相同,各个区域的光学延迟彼此平均可以得到较好视角特性。
要实现上述MVA显示模式,要求第一基板10在完成透明电极层溅射后,还需要增加一次曝光工艺过程,通过这次曝光,在第一基板10侧制作出特定图形的凸起12;同时还要求在第二基板20在透明电极层曝光、刻蚀中,同时完成第二基板20侧透明电极层沟槽22的制作。制作第一基板10侧凸起12一般要进行以下处理:将相应材料在第一基板表面进行涂布或溅射、曝光、显影和退火;制作第一基板侧沟槽一般要进行溅射、光刻胶涂布、曝光、显影和刻蚀。因此,该种结构的液晶显示装置增加了工艺复杂度,提高了成本,同时由于第一基板最终要和第二基板贴合在一起,又由于曝光位置精度、贴合精度的影响,贴合完毕后,如图3a、图3b所示,第一基板10侧凸起或者沟槽12所处的位置可能会偏离设计位置,这会对响应速度,视角带来不好的影响。
发明内容
本发明解决的技术问题在于提供一种降低第一基板制作成本、避免由于第一、二基板贴合时相对位置偏差而造成的响应速度降低、视角变差的垂直取向模式的液晶显示装置。
为达上述目的,本发明提供了一种垂直取向模式的液晶显示装置,包括相对设置的第一基板和第二基板;一液晶层,填充在第一基板和第二基板之间;所述第二基板上形成有多个具有像素电极的子像素;其中所述像素电极上形成有一沟槽,所述沟槽将像素电极分立成电学上互不相连的两个部分,两个部分分别由一个TFT器件进行驱动,且在两个TFT器件上分别施加不同的信号电压。
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