[发明专利]有机预涂金属板上硅氧氟涂层的制备方法无效
申请号: | 200710043176.5 | 申请日: | 2007-06-29 |
公开(公告)号: | CN101333652A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
发明(设计)人: | 杨立红;杨晓萍 | 申请(专利权)人: | 宝山钢铁股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/02;C23C16/52;C23C16/30 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 楼仙英 |
地址: | 20190*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 金属板 上硅氧氟 涂层 制备 方法 | ||
1.一种有机预涂金属板上硅氧氟涂层的制备方法,其特征在于,包括下列步骤:
a)在等离子体环境中对所述有机预涂金属板进行表面清洗和表面活化;
b)使用等离子体增强化学气相沉积方法,在有机预涂金属板的有机涂层上沉积形成SixOyFz薄膜。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其中步骤a)产生等离子体的气体是氧气、氮气、氢气、氩气中的任意一种或几种气体的组合。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其中所述表面活化的时间控制在0.5~200秒之间。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其中步骤b)所述等离子体增强化学气相沉积方法包括:
-将含Si、O、F的一种或几种前驱体通过加热,以氩气作为载气,同时通入氧气,在等离子发生器作用下形成等离子体,进行等离子化学气相沉积。
5.根据权利要求1或4所述的方法,其中所述的步骤a)和/或b)在真空环境下进行,该真空环境的真空度范围为1×10-6~1×10-2Pa。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的