[发明专利]带钢镀膜方法及其系统

权利要求书

1.一种带钢镀膜方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：

a)带钢开卷后，进入等离子环境中进行表面清洗和表面活化的前处理；

b)前处理后的带钢进入真空镀膜单元，采用物理气相沉积工艺实现镀膜。

2.根据权利要求1所述的带钢镀膜方法，其中步骤a)为常压等离子前处理工艺，采用DBD方式产生等离子。

3.根据权利要求1或2所述的带钢镀膜方法，其中产生等离子的气体是氧气、氮气、氢气、氩气或者是这几种气体的组合。

4.根据权利要求1所述的带钢镀膜方法，其中步骤b)所采用的物理气相沉积工艺选自热蒸发、磁控溅射、电子束蒸发中的一种或几种。

5.根据权利要求1或4所述的带钢镀膜方法，其中所述的物理气相沉积工艺采用等离子增强的方式进行。

6.根据权利要求1或4所述的带钢镀膜方法，其中真空镀膜单元的镀膜部分的真空度范围在1×10^-7到1×10^-1Pa之间。

7.根据权利要求1或2或4所述的带钢镀膜方法，其中将带钢基板的运行速率控制在10到200米/分钟之间。

8.根据权利要求1或2或4所述的带钢镀膜方法，其中该方法用于实现金属、非金属、氧化物，和氮化物中的一种或多种材料的镀膜。

9.一种带钢镀膜系统，其特征在于，该系统至少包括下列单元：

a)前处理单元，该前处理单元可以形成等离子环境，对进入其中的带钢进行表面清洗和表面活化；

b)真空镀膜单元，该真空镀膜单元具有真空环境，可以对进入其中的带钢进行物理气相沉积以实现镀膜。

10.根据权利要求9所述的带钢镀膜系统，其中前处理单元a)形成的等离子环境为常压等离子环境，采用DBD方式产生等离子。

11.根据权利要求9或10所述的带钢镀膜系统，其中在前处理单元中产生等离子的气体是氧气、氮气、氢气、氩气或者是这几种气体的组合。

12.根据权利要求9所述的带钢镀膜系统，其中真空镀膜单元b)包括一种或任意种热蒸发、磁控溅射、电子束蒸发方式的物理气相沉积设备。

13.根据权利要求9或12所述的带钢镀膜系统，其中所述的真空镀膜单元b)还包括等离子增强设备。

14.根据权利要求9或12所述的带钢镀膜系统，其中所述真空镀膜单元的长度为40-50米。

15.根据权利要求9或10或12所述的带钢镀膜系统，还包括：

c)加热和/或冷却单元，该加热和/或冷却单元用于提高镀膜的性能。