[发明专利]测量系统的校正装置无效
申请号: | 200710044041.0 | 申请日: | 2007-07-20 |
公开(公告)号: | CN101349579A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 程蒙 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G01D18/00 | 分类号: | G01D18/00;G01B11/00;G01R31/26;H01L21/66;G02B27/10 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 系统 校正 装置 | ||
1、一种测量系统的校正装置,其特征在于,包括:传感器,用于捕捉测量系统中的干涉光并形成明暗条纹;影像分析模块,对干涉光形成的明暗条纹的偏差方向进行计算;控制模块,根据影像分析模块的计算值对测量系统中的偏差元件进行偏差量的校正。
2、如权利要求1所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的传感器为电荷耦合装置。
3、如权利要求1所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的偏差元件为参考镜。
4、如权利要求1所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的测量系统包括光源,分光镜,物镜和参考镜;其中分光镜将光源发出的入射光分为两束光,一束光垂直入射光的传播方向通过物镜照射到被测对象,另一束光沿着入射光的传播方向照射到参考镜。
5、如权利要求4所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的分光镜到参考镜和到被测对象的距离相等。
6、如权利要求4或5所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的被测对象为晶圆。
7、如权利要求4所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的两束光的频率相同。
8、如权利要求4所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的两束光的振动方向相同。
9、如权利要求4所述的测量系统的校正装置,其特征在于:所述的两束光的振动有恒定的位相差。
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