[发明专利]一种可擦写、可读出的无机薄膜电双稳器件及其制备方法

权利要求书

1.一种可擦写、可读出的无机薄膜电双稳器件，其特征在于采用金属层(M1)-无机介质层-金属(M2)结构，其中，二端的金属层(M₁和M₂)作为电极，中间的无机介质层作为功能介质层；这里，金属层(M1)为Cu，金属层(M2)为铝，无机介质层为由硫氰酸钾和部分铜电极反应制备获得的功能材料层。

2.根据权利要求1所述的可擦写、可读出的无机薄膜电双稳器件，其特征在于所述无机介质层厚度为10-150nm。

3.根据权利要求1所述的可擦写、可读出的无机薄膜电双稳器件的制备方法，其特征在于具体步骤如下：在真空镀膜机中，以绝缘基板做基底，采用一掩膜，在基板上沿X轴方向沉积厚度为150～300纳米的线条状铜膜，再在铜膜的上表面上沉积厚度为5～50纳米的硫氰酸钾薄膜，然后再利用掩膜在硫氰酸钾薄膜上沿Y轴方向沉积厚度为80～150纳米的线条状铝膜；X轴方向线条状的铜膜与Y轴方向线条状的铝膜相交叉部分的面积就是一个器件的面积。