[发明专利]一种分时对准装置和对准方法

权利要求书

1.一种用于投影曝光装置中的位置对准装置，其特征在于：所述位置对准装置包括：

分时对准装置；

掩模标记；

曝光对象；和

曝光对象标记；

所述分时对准装置设置于掩模版上方；所述掩模标记设置于所述掩模版上；所述曝光对象设置于承片台上；所述曝光对象标记设置于所述曝光对象上。

2.根据权利要求1所述的位置对准装置，其特征在于：所述投影曝光装置包括：

光学投影系统；

所述掩模版；

承版台；

承版台运动控制单元；

所述曝光对象；

承片台；

承片台运动控制单元；和

总控制装置。

3.根据权利要求2所述的位置对准装置，其特征在于：所述光学投影系统的设计波段为350纳米至450纳米，不考虑光学投影系统在对准波段的色差。

4.根据权利要求2所述的位置对准装置，其特征在于：所述的分时对准装置包括：

聚光镜单元；

反射镜单元；

掩模标记成像单元；

曝光对象标记成像单元；

光电探测器；和

光电探测处理单元；

所述聚光镜单元会聚照明光纤出射光；所述反射镜单元偏折光路；所述掩模标记成像单元将所述掩模标记成像到所述光电探测器靶面上；所述曝光对象标记成像单元将所述曝光对象标记成像到所述光电探测器靶面上；所述光电探测处理单元对标记在光电探测器靶面上的位置进行检测。

5.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述聚光镜单元包括照明光纤、聚光镜组、滤波片及两个直角分束棱镜。

6.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述聚光镜单元可以加入滤波片，所述滤波片过滤对准光源中射向所述曝光对象的紫外光。

7.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述反射镜单元包括平面反射镜、两个直角棱镜和前组成像物镜组。

8.根据权利要求7所述的位置对准装置，其特征在于：所述两个直角棱镜可以分别由两个平面反射镜组成。

9.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述聚光镜单元和所述反射镜单元组成掩模标记照明系统，所述掩模标记照明系统均匀照明所述掩模标记。

10.根据权利要求9所述的位置对准装置，其特征在于：所述掩模标记照明系统，可以为临界照明系统，也可以为柯勒照明系统。

11.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述聚光镜单元、所述反射镜单元、所述掩模版和所述光学投影系统组成曝光对象标记照明系统，所述曝光对象标记照明系统均匀照明所述曝光对象标记。

12.根据权利要求11所述的位置对准装置，其特征在于：所述曝光对象标记照明系统的光源波长为520纳米到650纳米。

13.根据权利要求11所述的位置对准装置，其特征在于：所述曝光对象标记照明系统，可以为临界照明系统，也可以为柯勒照明系统。

14.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述掩模标记成像单元包括机械快门、成像物镜组、衰减片和分束器件。

15.根据权利要求14所述的位置对准装置，其特征在于：所述分束器件可以是直角分束棱镜，也可以是平面分束片。

16.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述反射镜单元和所述掩模标记成像单元组成掩模标记成像系统，所述掩模标记成像系统将掩模标记成像在所述光电探测器靶面上。

17.根据权利要求4所述的位置对准装置，其特征在于：所述曝光对象标记成像单元包括机械快门、成像物镜组和反射装置。

18.根据权利要求17所述的位置对准装置，其特征在于：所述反射装置可以是外反射直角棱镜，也可以是平面反射镜。