[发明专利]熔融石英透射1×2分束光栅无效

专利信息
申请号: 200710048186.8 申请日: 2007-11-14
公开(公告)号: CN101149444A 公开(公告)日: 2008-03-26
发明(设计)人: 周常河;王博 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 熔融 石英 透射 光栅
【说明书】:

技术领域

发明涉及1×2分束器,特别是一种针对光纤通信用1550纳米波段的熔融石英透射1×2分束光栅。

背景技术

分束器广泛应用于各种光学系统中,它能把一束入射光分成几束能量相等的出射光。传统的基于多层介质膜的宽带分束器能量损失较大,制造过程复杂,成本高。近来,一些文献报道了相位光栅作为分束器,例如3通道耦合器、干涉计用反射50/50输出等等。通常,全息光栅的工作带宽窄。众所周知,熔融石英是一种非常好的光学材料,它具有从深紫外到远红外的宽透射谱。以熔融石英为材料,已经设计和制作了低偏振相关损耗高效率光栅和偏振分束光栅。因此,如果熔融石英用来制作分束光栅应用于宽带高功率激光系统中,将是非常吸引人的。

矩形高密度深刻蚀光栅是利用微电子深刻蚀工艺,在基底上加工出的具有较深槽形的光栅。由于表面刻蚀光栅的刻蚀深度较深,所以衍射性能类似于体光栅,具有高效率的体光栅布拉格衍射效应,这一点与普通的表面浅刻蚀的平面光栅完全不同。矩形高密度深刻蚀光栅的衍射理论,不能由简单的标量光栅衍射方程来解释,而必须采用矢量形式的麦克斯韦方程并结合边界条件,通过编码的计算机程序精确地计算出结果。Moharam等人已给出了严格耦合波理论的算法【在先技术1:M.G.Moharam et al.,J.Opt.Soc.Am.A.12,1077(1995)】,可以解决这类高密度光栅的衍射问题。但据我们所知,没有人针对光纤通信的1550纳米波段给出高密度深刻蚀熔融石英透射1×2分束光栅的设计参数。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对光纤通信的1550纳米波段提供一种熔融石英透射1×2分束光栅,该光栅可以使TE或者TM偏振入射光等效率分别在0和1级衍射,实现1×2分束,以及偏振自由选择的情况下,同时对TE和TM偏振入射光实现1×2分束。因此,能够实现对TE或者TM以及同时对TE和TM偏振入射光高衍射效率透射1×2分束,具有重要的实用意义。

本发明的技术解决方案如下:

一种用于常用波段1550纳米光纤通信的熔融石英透射1×2分束光栅,该光栅是矩形高密度深刻蚀光栅,光栅的占空比为0.500、周期为1550纳米、刻蚀深度为1.380微米,该光栅适用于TE偏振光入射;

该光栅的占空比为0.500、周期为1550纳米、刻蚀深度为1.739微米,该光栅适用于TM偏振光入射;

该光栅的占空比为0.643、周期为1527纳米、刻蚀深度为1.830微米,该光栅同时适用于TE和TM偏振光入射。

试验表明,本发明熔融石英透射1×2分束光栅,该光栅可以使TE或者TM偏振入射光等效率分别在0级衍射和1级衍射,实现1×2分束,以及偏振自由选择的情况下,同时对TE和TM偏振入射光实现1×2分束。

本发明熔融石英光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成,可以低成本、大批量生产。

附图说明

图1是本发明1550纳米波长的熔融石英透射1×2分束光栅的几何结构。

图2是本发明熔融石英透射1×2分束光栅(熔融石英的折射率取1.44462)在不同光栅刻蚀深度下的透射衍射效率。

图3是本发明熔融石英透射1×2分束光栅(熔融石英的折射率取1.44462)在光纤通信的C+L波段使用,各个波长以相应的Littrow角度入射到光栅时,TE/TM模式下的透射衍射效率。

图4是全息光栅的记录光路。

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。

表1给出了本发明一系列实施例的参数和试验结果,图1显示了本发明熔融石英透射1×2分束光栅的几何结构。在图中,1代表光栅(基底熔融石英折射率n2=1.44462),2代表空气(折射率为n1=1),3代表入射光,4代表0级衍射光,5代表1级衍射光。光栅矢量K位于入射平面内。TE偏振入射光对应于电场矢量的振动方向垂直于入射面,TM偏振入射光对应于磁场矢量的振动方向垂直于入射面。一线性偏振的光波以一定角度θi=sin-1(λ/(2*Λ))入射(定义为Littrow条件),λ代表入射波长,Λ代表光栅周期。

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