[发明专利]基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺有效
申请号: | 200710049612.X | 申请日: | 2007-07-26 |
公开(公告)号: | CN101093869A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 饶海波;李君飞;侯斌 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610054四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 水溶性 感光 功率 白光 led 平面 涂层 工艺 | ||
1、一种基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,包括以下步骤:
①配制有机胶体:按有机成分与去离子水的质量比为2~22∶100比例配制有机胶体,静止至气泡消失,所述有机成分为聚乙烯醇;
②配制光敏剂溶液:按重铬酸铵或重氮化合物与去离子水的质量比为0.02~12∶100比例配制光敏剂;
③混合成感光体系:将有机胶体与光敏剂按体积比为2~20∶1比例混合,然后加入消泡剂,其中消泡剂与混合液的体积比为1∶2~20,该消泡剂为稀释了5~30倍的有机硅消泡剂或硅油消泡剂;
④配制含有荧光粉的感光胶悬浮液:将步骤③所得感光体系和功能有机成分以及荧光粉混合,所述感光体系和功能有机成分按体积比为2~100∶1进行配比,荧光粉的量按与感光体系0.1~1g/ml的比例添加;
⑤涂覆:将步骤④所得的感光胶悬浮液涂覆在LED芯片表面上,形成荧光粉涂层,并在暗室中自然阴干或风干;
⑥曝光显影:将完成步骤⑤的LED芯片接上电源,让芯片自身发光对粉层中的感光成分进行曝光,然后在温度为50~90℃的显影液中显影,显影时间为1~10min,得到具有平面结构的荧光粉层;
⑦固化处理:将步骤⑥所得到的荧光粉层进行固化,使粉层的物化特性稳定。
2、根据权利要求1所述的基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,步骤①中配制有机胶体时,加入无水乙醇、冰乙酸和分散剂中的一种或者多种,其中无水乙醇加入量占总体积的5~25%,冰乙酸加入量占总体积的1~5%,分散剂的加入量为占总质量的0.001~1%,所述分散剂为含有磺酸基的有机化合物。
3、根据权利要求1所述的基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,在步骤④中,所述功能有机成分是硅胶、环氧树脂、聚醋酸乙烯酯和丙烯酸酯聚合物中的一种或者多种。
4、根据权利要求1所述的基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,在步骤④中,功能有机成分若选择硅胶为粘合剂,则需加入乳化剂进行乳化,该乳化剂为O/W型乳化剂;若选择环氧树脂,需加入固化剂,环氧树脂和固化剂的重量比为10∶1~5,所述固化剂为苯酚树脂或氨基树脂等高分子固化剂。
5、根据权利要求1所述的基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,在步骤⑤中,荧光粉层涂覆方法采用旋转涂胶法、喷涂法、滴胶法和印刷法中的一种。
6、根据权利要求1所述的基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,在步骤⑥中,曝光方式采用芯片自曝光的方式或者采用UV光结合掩模板的外曝光方式。
7、根据权利要求1所述的基于水溶性感光胶的功率型白光LED平面涂层工艺,其特征在于,在步骤⑦中,固化方式为二次曝光或者UV再固化或者热固化。
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