[发明专利]衍射光栅列阵外腔半导体激光线阵及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710056186.2 申请日: 2007-10-18
公开(公告)号: CN101141051A 公开(公告)日: 2008-03-12
发明(设计)人: 邓鑫李;王立军;刘云 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H01S5/40 分类号: H01S5/40;H01S5/00
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 代理人: 赵炳仁
地址: 130033吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 衍射 光栅 列阵 半导体 激光 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种衍射光栅列阵外腔半导体激光线阵,包括半导体激光器线阵(1),沿半导体激光线阵(1)激光输出方向依次设有快轴准直镜(2)、小透镜(3)、半波片(4)、大透镜(5)、衍射光栅列阵(6),小透镜(3)与快轴准直镜(2)的距离为小透镜(3)的焦距f1,小透镜(3)和大透镜(5)共焦点放置组成倒置望远系统,大透镜(5)与衍射光栅列阵(6)的距离为大透镜(5)的焦距f2,半波片(4)位于小透镜(3)与大透镜(5)焦点处,其特征是所述的衍射光栅列阵(6)由不同旋转角度衍射光栅单元(7)胶合而成,每个衍射光栅单元7均利特罗结构放置,所述的半导体激光线阵(1)的一个或数个发光单元入射到对应的一个衍射光栅单元(7)上,调节每个衍射光栅单元(7),使光轴上和离轴发光单元的光束a、b入射到衍射光栅单元(7)的入射角θ、φ相等或很相近

2.根据权利要求1所述的外腔反馈半导体激光器线阵,其特征在于所述的小透镜(3)和大透镜(5)为凸透镜,大透镜(5)是小透镜(3)焦距的3-10倍。

3.根据权利要求1或2所述的外腔反馈半导体激光器线阵,其特征在于所述的快轴准直镜(2),小透镜(3),半波片(4),大透镜(5),都镀有工作波长的增透膜,而衍射光栅列阵(6)每个衍射光栅单元(7)均镀有工作波长的增反膜。

4.一种衍射光栅列阵外腔半导体激光线阵的制备方法,其特征是具体方法如下:

第一步、先将半导体激光线阵(1)发出的光经过快轴准直镜(2)准直,使快轴方向(y方向)光束近似为平行光;

第二步、小透镜(3)与快轴准直镜(2)的距离为小透镜(3)的焦距f1,大透镜(5)与衍射光栅列阵(6)的距离为大透镜(5)的焦距f2,小透镜(3)与大透镜(5)共焦点放置,组成倒置望远系统,用来压缩慢轴方向(x方向)发散角;

第三步、半波片(4)放置在小透镜(3)和大透镜(5)的焦点处,旋转半波片(4)调节激光的输出功率;

第四步、半导体激光线阵(1)的发光单元成像在衍射光栅列阵(6)上,1个发光单元的像对应相应的一个衍射光栅单元(7),衍射光栅列阵(6)由衍射光栅单元(7)组成,衍射光栅单元(7)为利特罗结构,即其零阶衍射光为输出光,一阶衍射光沿原路返回半导体激光线阵(1)的每个发光单元,调节每个衍射光栅单元(7),使光轴上和离轴发光单元发出的光束a、b入射到衍射光栅单元7的入射角θ、φ相等,这样根据一阶利特罗公式:2dsinθ=λ可知,沿原路反馈回的光轴上和离轴发光单元的中心波长相等,这样光轴上和离轴发光单元输出的光谱中心波长相同,从而半导体线阵(1)整体光谱线宽减小,每个衍射光栅单元(7)调节好后胶合成衍射光栅列阵(6);

第五步、根据半导体激光线阵(1)发光单元的弯曲程度和光谱窄化的程度,选择数个发光单元的像对应相应的一个衍射光栅单元(7),当数个发光单元的像对应相应的一个衍射光栅单元(7)时,使光轴上和离轴发光单元的光束a、b入射到衍射光栅单元(7)的入射角θ、φ很相近。

5.按照权利要求4所上述的一种衍射光栅列阵外腔半导体激光线阵的制备方法,其特征在于所述数个发光单元为2-20个。

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