[发明专利]一种促进半导体晶片上静电电荷消散的方法有效

专利信息
申请号: 200710062689.0 申请日: 2007-01-12
公开(公告)号: CN101221893A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 刘利坚 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/67;H01L21/683;H01L21/306
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人: 郑立明;姚巍
地址: 100016北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 促进 半导体 晶片 静电 电荷 消散 方法
【权利要求书】:

1.一种促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,在从双电极静电卡盘上释放半导体晶片过程中,包括如下步骤:

A:在双电极静电卡盘的两个电极上都加负电势,并维持设定的时间,以促进半导体晶片上额外电荷的消散。

2.如权利要求1所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的步骤A之前还包括:

B:改变双电极静电卡盘两个电极上的电势极性,即将正电势变为负电势、负电势变为正电势,并维持设定的时间,以消除半导体晶片上的感应电荷。

3.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的步骤B进一步包括:改变双电极静电卡盘两个电极上的电势极性,即将正电势变为负电势、负电势变为正电势,维持时间为1~10秒。

4.如权利要求3所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的维持时间为2~6秒。

5.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的步骤A进一步包括:在双电极静电卡盘的两个电极上都加负电势,维持时间为1~10秒。

6.如权利要求5所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的维持时间为2~5秒。

7.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的双电极静电卡盘上的两个电极使用两个输出可正负调换的直流电源来提供正电势或负电势。

8.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的双电极静电卡盘上的两个电极使用一个输出可正负调换的直流电源来提供正电势或负电势。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710062689.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top