[发明专利]一种促进半导体晶片上静电电荷消散的方法有效
申请号: | 200710062689.0 | 申请日: | 2007-01-12 |
公开(公告)号: | CN101221893A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 刘利坚 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/67;H01L21/683;H01L21/306 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑立明;姚巍 |
地址: | 100016北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 促进 半导体 晶片 静电 电荷 消散 方法 | ||
1.一种促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,在从双电极静电卡盘上释放半导体晶片过程中,包括如下步骤:
A:在双电极静电卡盘的两个电极上都加负电势,并维持设定的时间,以促进半导体晶片上额外电荷的消散。
2.如权利要求1所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的步骤A之前还包括:
B:改变双电极静电卡盘两个电极上的电势极性,即将正电势变为负电势、负电势变为正电势,并维持设定的时间,以消除半导体晶片上的感应电荷。
3.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的步骤B进一步包括:改变双电极静电卡盘两个电极上的电势极性,即将正电势变为负电势、负电势变为正电势,维持时间为1~10秒。
4.如权利要求3所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的维持时间为2~6秒。
5.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的步骤A进一步包括:在双电极静电卡盘的两个电极上都加负电势,维持时间为1~10秒。
6.如权利要求5所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的维持时间为2~5秒。
7.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的双电极静电卡盘上的两个电极使用两个输出可正负调换的直流电源来提供正电势或负电势。
8.如权利要求1或2所述的促进半导体晶片上静电电荷消散的方法,其特征在于,所述的双电极静电卡盘上的两个电极使用一个输出可正负调换的直流电源来提供正电势或负电势。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造