[发明专利]一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法

权利要求书

1.一种多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，包括以下过程：

A、用至少一种有机溶剂清洗石英零件表面；

B、用碱性溶液清洗石英零件表面；

C、用至少一种酸性溶液清洗石英零件表面；

D、对石英零件进行超声波清洗。

2.根据权利要求1所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的过程A前包括：

用去离子水清洗石英零件表面，并用洁净的高压气体吹干石英零件的表面。

3.根据权利要求1所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的过程B包括：

A1、用至少一种有机溶剂分别喷淋、擦拭或浸泡石英零件设定的清洗时间，用洁净的擦拭物擦拭零件，直至擦拭物上无带色的污染物附着；

或者在过程A1后还包括：

A2、用去离子水喷淋石英零件表面，并用洁净的高压气体吹干石英零件的表面。

4.根据权利要求1或3所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的有机溶剂包括：

纯异丙醇，100％，符合SEMI标准C41-1101A的I级标准；或者，

纯丙酮，满足电子纯级别要求。

5.根据权利要求1或3所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的过程B包括：

在用有机溶剂清洗石英零件后，对石英零件进行超声清洗。

6.根据权利要求1所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的过程B包括：

B1、用碱性溶液在室温浸泡适应石英零件设定的碱性溶液浸泡时间；

B2、用去离子水喷淋石英零件表面，并用洁净的高压气体吹干石英零件的表面。

7.根据权利要求1或6所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的碱性溶液包括氢氧化氨NH₄OH、双氧水H₂O₂与水H₂O，其质量含量比为：NH₄OH∶H₂O₂∶H₂O为1∶3-8∶10。

8.根据权利要求1所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的过程C包括：

C1、用酸性溶液在室温浸泡适应石英零件设定的酸性溶液浸泡时间；

C2、用去离子水喷淋石英零件表面，并用洁净的高压气体吹干石英零件的表面。

9.根据权利要求1或8所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的酸性溶液包括：

配方X：所述的酸性溶液盐酸水溶液，其盐酸HCl的质量百分含量比为5％～10％；

配方Y：所述的酸性溶液包括氢氟酸HF、硝酸HNO₃与水H₂O，其质量含量比为：

HF           1％～5％；

HNO₃         5％～20％；

H₂O          余量；

所有组分的含量总和为100％。

10.根据权利要求1或2所述的多晶刻蚀腔室中石英零件表面的清洗方法，其特征在于：

所述的过程E前包括，

D1、将石英零件在超纯水中浸泡设定的超纯水浸泡时间；

或者，所述的过程E后包括，

D2、用去离水喷淋石英零件表面不少于设定的喷淋时间，并用洁净的高压气体吹干石英零件的表面；

D3、将零件在80℃～130℃环境下烘烤零件进行烘干处理。