[发明专利]一种有机电致发光元件及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光元件技术领域，尤其涉及一种有机电致发光元件及其制作方法，该有机电致发光元件在一对阴阳电极之间配置具有单层或多层有机化合物材料膜层，以及在阳极与第一层有机化合物材料膜层间配置一层纳米级的绝缘性质的金属氧化物薄膜层。

背景技术

有机电致发光元件包括一层或多层夹在阳极层和阴极层之间的有机功能材料层。电学上，这种元件的工作类似于二极管。光学上，当正向加偏压时它发出与发光材料相关的颜色的光，并且亮度随着正向偏置电流的提高而增强。通常可供选择可以应用在有机电致发光元件中的有机化合物材料较为昂贵，并且所使用的有机化合物种类的增多，会增加元件失效的几率。

现有制作有机电致发光元件的方法一般是采用真空热蒸发的方法制作每一层材料，也就是将衬底放入高真空后，蒸镀每一层有机材料和阴极，在此过程中，衬底是不会暴露于空气中的，即在同一真空下完成几层和阴极的制作。

尽管有机电致发光元件的技术取得了很大的进步，但仍然不足以实用化，需要进一步提高器件的效率。

现有提高器件效率的方法是通过改变器件每层材料的能带结构实现的，以尽量优化有机电致发光元件的效率。而通过这种提高器件效率的方法并不能取得很好的效果。

发明内容

(一)要解决的技术问题

有鉴于此，本发明的一个目的在于提供一种有机电致发光元件，以提高器件效率，降低器件的阈值电压。

本发明的另一个目的在于提供一种制作高效率有机电致发光器件的方法。

(二)技术方案

为达到上述一个目的，本发明提供了一种有机电致发光元件，包括阴极层和阳极层，以及夹在阴极层与阳极层之间的至少一层有机化合物薄膜，该有机电致发光元件还包括：一金属氧化物薄膜层，位于阳极层与有机化合物薄膜层之间，紧邻阳极层。

所述金属氧化物薄膜层为绝缘材料。

所述金属氧化物薄膜层的厚度为纳米级。

所述有机化合物薄膜至少包含一层发光层材料薄膜。

当该有机电致发光元件仅包括一层有机化合物薄膜时，该有机化合物薄膜层为发光层材料；

当该有机电致发光元件包括多层有机化合物薄膜时，该有机化合物薄膜层中包含有一层发光层材料。

为达到上述另一个目的，本发明提供了一种制作有机电致发光元件的方法，该方法包括：

A、在阳极衬底上制作纳米级的金属氧化物薄膜层；

B、对制作的金属氧化物薄膜层进行彻底氧化处理；

C、在氧化后的金属氧化物薄膜层上制作有机化合物薄膜层；

D、蒸镀金属阴极并封装。

所述步骤A包括：在铟锡氧化物薄膜(ITO)玻璃基底上涂一层光刻胶，通过湿法腐蚀或干法刻蚀，然后去胶，得到图形化的ITO作为阳极衬底；在图形化的ITO上蒸镀金属铝层，工艺条件为：在5×10^-5Pa的真空下，以0.01nm/s的速度进行蒸镀，金属铝层的厚度为0.3nm，通过真空蒸镀仪器的晶振装置来控制该厚度。

步骤B中所述彻底氧化处理采用氧等离子或紫外线照射产生的臭氧对金属氧化物薄膜层进行氧化处理，其中采用氧等离子的工艺条件为：在7Pa的氧气氛围下，以10W的功率，对金属氧化物薄膜层处理60秒，使该铝层彻底氧化为三氧化二铝。

所述步骤C包括：在氧化后的金属氧化物薄膜层上蒸镀芳香旗二胺类衍生物(NPB)材料层，工艺条件为：在8×10^-3Pa的真空下，以0.3nm/s的速度进行蒸镀，厚度为50nm，通过真空蒸镀仪器的晶振来监测该厚度；在NPB材料层上蒸镀发光层材料Alq₃，工艺条件为：在8×10^-3Pa的真空下，以0.3nm/s的速度进行蒸镀，厚度为50nm，通过真空蒸镀仪器的晶振来监测该厚度。

所述步骤D包括：在制作的有机化合物薄膜层上蒸镀镁银合金金属电极，工艺条件为：在8×10^-3Pa的真空下，以0.3nm/s的速度进行蒸镀，厚度为100nm，通过真空蒸镀仪器的晶振来监测该厚度；然后通过紫外固化胶，将经过上述处理的衬底与一片适合大小的玻璃片黏合在一起，实现封装。

(三)有益效果

从上述技术方案可以看出，本发明具有以下有益效果：