[发明专利]聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法无效
申请号: | 200710068478.8 | 申请日: | 2007-05-10 |
公开(公告)号: | CN101051092A | 公开(公告)日: | 2007-10-10 |
发明(设计)人: | 单国荣;梁志超 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04;G02B1/10;G02B1/00;C09D183/04 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚碳酸酯 光学材料 表面 有机硅 耐磨 涂层 制备 方法 | ||
1、一种聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将基底涂料涂覆于聚碳酸酯光学材料表面,20~100℃下干燥2~60分钟;
(2)将中间涂层涂料涂覆于步骤(1)得到的带有基底涂层的聚碳酸酯光学材料表面,20~100℃下干燥5~120分钟;
(3)将耐磨涂层涂料涂覆于步骤(2)得到的带有中间涂层的聚碳酸酯光学材料表面,20~100℃下干燥30~300分钟,得到有机硅耐磨涂层处理的聚碳酸酯光学材料;
所述基底涂料的成份为质量百分比浓度为0.1~5%结构式为XR1Si(OR2)3的醇溶液,其中R1是C1~C10的脂肪链,X是NH2-、CN-、环氧基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基,R2是H或C1~C3的脂肪链;
所述中间涂层涂料的成份为(a)、(b)或(c)中的至少一种:
(a)质量百分比浓度为0.1~10%结构式为(XR1)nSi(OR2)(4-n)的醇溶液,其中n=1或2,X是NH2-、CN-、环氧基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基,R1是C1~C10的脂肪链,R2是H或C1~C3的脂肪链;
(b)质量百分比浓度为0.1~10%的聚甲基丙烯酸甲酯溶液,溶剂为三氯甲烷和/或四氢呋喃;
(c)质量百分比浓度为0.1~10%结构式为(R1)nSi(OR2)(4-n)水解缩合产物的醇溶液,其中n=0、1或2,R1是C1~C3的脂肪链,R2是H或C1~C3的脂肪链;
所述耐磨涂层涂料的成份为质量百分含量为0.1~10%结构式为(XR1)nSi(OR2)(4-n)与质量百分含量为90~99.9%结构式为(R3)mSi(OR2)(4-m)的水解缩合产物的醇溶液,醇溶液中水解缩合产物的质量百分比浓度为5~35%,其中n=1或2,m=0、1或2,X是NH2-、CN-、环氧基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基,R1是C1~C10的脂肪链,R2是H或C1~C3的脂肪链,R3是C1~C3的脂肪链;
所述的醇为C1~C6脂肪醇中的一种或多种。
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