[发明专利]一种可后续加工的低辐射玻璃及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及的是低辐射玻璃，尤其是一种可后续加工的低辐射玻璃及其制造方法。

背景技术

低辐射玻璃(又称LOW-E玻璃)，是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其他化合物组成的膜系产品。由于银层具有低辐射率的特性，低辐射玻璃对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能。

采用真空磁控溅射法生产普通低辐射玻璃的膜层结构一般为：玻璃/基层电介质组合层/阻挡层(1)/Ag层/阻挡层(2)/上层电介质组合层。

电介质组合层一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如TiO₂、ZnSnOx、SnO₂、ZnO、SiO₂、Ta₂O₅、BiO₂、Al₂O₃、ZnAl₂O₄、Nb₂O₅、Si₃N₄等；

阻挡层(1)和阻挡层(2)一般为金属或金属氧化(氮化)物，也可以是合金或合金氧化(氮化)物，如NiCr或者NiCrOx，NiCrNx。

但是，这种低辐射玻璃不能进行后续热处理，其根本原因是：Ag层在加热过程中被破坏，如Ag层被氧化、Ag层面电阻升高等现象。外观可观察到如下几种情况：膜面呈白色云雾状，透过率下降，颜色不均匀，可能伴随大面积掉膜；膜面有分散的片状氧化；满板针孔状的小氧化点，类似满天星。这些现象均是银层被破坏的外观表现，不能批量生产。

在传统的低辐射玻璃加工中，只能对玻璃采用先钢化再镀膜的加工方式，传统低辐射节能玻璃不能推广到汽车玻璃，也不能大面积推广到民宅，这是因为：

1.不能实现弯弧玻璃镀膜

现代建筑和汽车风挡广泛采用弯钢化和热弯玻璃，传统离线低辐射镀膜玻璃不能进行弯钢化和热弯等后续的热加工处理。国内现有的建筑镀膜玻璃生产线均不能在弯钢化和热弯玻璃基片上镀膜。

2.镀膜运行效率低

钢化玻璃镀膜的装载率只有75％左右，也就是只能发挥镀膜线产能的75％。钢化玻璃镀膜靠人工装片和卸片，需配置足够的操作工，增加了人工工资支出，同时人工装、卸片的速度又制约了镀膜走速，镀膜线运行不经济。

定单管理工作量大，从生产制单、下单到生产统计的全过程，均要专门的机构去运行，耗费大量的资源。

各种补片的生产周期长，镀膜和中空工序中出现的废品要补片，玻璃在安装现场的损坏也要补片。这些补片再次纳入生产定单来安排生产，补片周期长。

3.玻璃运输成本高

因离线低辐射镀膜必须合成中空玻璃后使用，中空玻璃的运输增加了运输支出，例如，6mm低辐射玻璃+12mm空气层+6mm玻璃的中空玻璃，运输货物的体积是单片玻璃的两倍。

发明内容

本发明的目的是针对上述低辐射玻璃存在的不足，提供一种耐热性能好，能在700℃高温下进行钢化、热弯或弯钢化等强化处理之可后续加工的低辐射玻璃的制造方法。

本发明可后续加工的低辐射玻璃的制造方法，包括：玻璃基片镀膜前的清洗、干燥处理和镀膜完成后的检验，其特征在于：采用真空磁控溅射镀膜工艺，在镀膜线配置高抽速的无油分子泵，背景真空在高真空3*10^-6mbar以上，并按以下步骤在玻璃上镀制：

一、在玻璃表面镀制氮化硅(Si₃N₄)基层电介质组合膜层(1)，采用中频电源加旋转在氩氮氛围中溅射沉积，功率为80kw-90kw，中频电源频率为40kHz，膜层厚度为35-40nm；

二、在玻璃的氮化硅(Si₃N₄)基层电介质组合膜层(1)上镀制氧化锌锡(ZnSnOx)基层电介质组合膜层(2)，采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积，功率为50kw-60kw，中频电源频率为40kHz，膜层厚度为10-15nm；

三、在玻璃的氧化锌锡(ZnSnOx)基层电介质组合层(2)上镀制氧化镍铬(NiCrOx)阻挡膜层(1)，在氩氧氛围中溅射镍铬合金，功率为2kw，膜层厚度为2-3nm；

四、在玻璃的氧化镍铬(NiCrOx)阻挡膜层(1)上镀制银(Ag)膜层，在氩气氛围中沉积，功率为2kw，膜层厚度为12nm；