[发明专利]一种光学头中光学系统的优化方法

权利要求书

1.一种光学头中光学系统的优化方法，包括以下步骤：

A、根据光学系统的初步设计结果模拟光路，基于传统像差理论，采用第一像质评价函数，对光学系统进行优化，达到衍射极限；

B、在满足基于像差理论的优化极限下，以光学系统中光路元件状态检测的灵敏度为优化的目标二次优化光学系统。

2.根据权利要求1所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，所述的步骤B包括以下步骤：

B1、选择光学系统中光路元件状态参数为变量；

B2、观察聚焦开环误差信号的线性区范围；

B3、以聚焦开环误差信号的线性区范围的长度接近焦深的变量为优化结果。

3.根据权利要求2所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，

所述的步骤B2包括以下步骤：

B21、包括重复修改选择的参数的参量，进行光路模拟；

B22、记录结果，并进行观察。

4.根据权利要求2或3所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，

B31、计算所得的线性区域范围的实际长度与理论设计焦深量之间的平方作为第二像质评价函数；

B32、以令第二像质评价函数最小为目标的优化所得到的变量的数值为优化结果。

5.根据权利要求1或2或3所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，所述的光学系统中光路元件状态包括离焦、信道跟踪状态。

6.根据权利要求5所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，所述的离焦、信道跟踪状态参数包括像散元件柱面镜或倾斜平面镜的参数。

7.根据权利要求5所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，所述的离焦、信道跟踪状态参数选自柱面镜光学面的曲率半径、光学面对称轴与四象限探测器的夹角、倾斜平面镜的材料特性、倾斜平面镜与四象限探测器的夹角中的一种或其组合。

8.根据权利要求5所述的光学头中光学系统的优化方法，其特征在于，所述离焦、信道跟踪状态参数应为像散元件的非决定性、易调整的参数。