[发明专利]显示基板及其制造方法以及具有该显示基板的显示装置无效

专利信息
申请号: 200710079815.3 申请日: 2007-02-14
公开(公告)号: CN101071242A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 柳春基 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制造 方法 以及 具有 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括:

栅极金属图案,包括栅极线、开关元件的栅电极、和第一存储电极;

第一栅极绝缘层,覆盖所述栅电极和所述第一存储电极中的至少一个;

第二栅极绝缘层,被图案化,以露出所述第一存储电极上的所述第一栅极绝缘层;

源极金属图案,包括第二存储电极,所述第二存储电极与源极线和所述第一存储电极上的所述第一栅极绝缘层接触;以及

像素电极,电连接至所述开关元件。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述第一栅极绝缘层具有500至1200的厚度。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述第一栅极绝缘层包含二氧化硅。

4.根据权利要求2所述的显示基板,其中,所述第二栅极绝缘层包含氮化硅。

5.根据权利要求2所述的显示基板,其中,像素部由相邻的所述栅极线和相邻的所述源极线限定,并且所述第一存储电极的面积是所述像素部的面积的3%至10%。

6.根据权利要求1所述的显示基板,进一步包括向所述栅极线施加栅极信号的栅极焊盘部。

7.根据权利要求6所述的显示基板,其中,所述栅极焊盘部包括连接图案和焊盘图案,所述连接图案由与所述源极线相同的层形成,以接触所述栅极线的端部,而所述焊盘图案由与所述像素电极相同的层形成,以接触所述连接图案。

8.一种用于制造显示基板的方法,所述方法包括:

在底基板上由栅极金属层形成栅极金属图案,所述栅极金属图案包括栅极线、开关元件的栅电极、和第一存储电极;

在具有所述栅极金属图案的所述底基板上形成第一栅极绝缘层;

对所述第一栅极绝缘层进行图案化,以覆盖所述栅电极和所述第一存储电极中的至少一个;

形成第二栅极绝缘层,所述第二栅极绝缘层形成在具有已被图案化的所述第一栅极绝缘层的所述底基板上,并对所述第二栅极绝缘层进行图案化,以露出所述第一存储电极上的第一栅极绝缘层;

形成第二存储电极,所述第二存储电极由源极金属层形成,以便与源极线和所述第一存储电极上的所述第一栅极绝缘层接触,所述第一栅极绝缘层通过所述第二栅极绝缘层而露出;以及

形成像素电极,所述像素电极由透明导电层形成,以电连接至所述开关元件。

9.根据权利要求8所述的方法,进一步包括形成向所述栅极线施加栅极信号的栅极焊盘部。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,形成所述栅极焊盘部的步骤包括:

对所述第二栅极绝缘层图案化,以露出所述栅极线的端部;

由所述源极金属层形成连接图案,以接触所述端部;以及

由所述透明导电层形成焊盘图案,以接触所述连接图案。

11.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一栅极绝缘层和所述第二栅极绝缘层具有不同的蚀刻选择比率。

12.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一栅极绝缘层具有500至1200的厚度。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述第一栅极绝缘层包含二氧化硅。

14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述第二栅极绝缘层包含氮化硅。

15.一种显示装置,包括:

显示基板,其包括第一栅极绝缘层,所述第一栅极绝缘层被图案化,以覆盖开关电极的栅电极和第一存储电极中的至少一个;

第二栅极绝缘层,其被图案化,以露出所述第一存储电极上的所述第一栅极绝缘层;

第二存储电极,其与所述第一存储电极上的所述第一栅极绝缘层接触;

像素电极,电连接至所述开关元件;

相对基板,与所述显示基板结合在一起,以容纳液晶层;

以及

共用电极,面向所述像素电极,形成在所述相对基板上。

16.根据权利要求15所述的显示装置,其中,所述第一栅极绝缘层具有500至1200的厚度;

17.根据权利要求15所述的显示装置,其中,所述显示基板进一步包括电连接至所述栅电极的栅极线以及向所述栅极线施加栅极信号的栅极焊盘部,以及

其中,所述栅极焊盘部包括与所述栅极线的端部接触的连接图案以及与所述连接图案接触的焊盘图案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710079815.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top