[发明专利]精度管理系统有效
| 申请号： | 200710084766.2 | 申请日： | 2007-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101038293A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 三村智宪;川濑一光 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00;G01N33/48 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 许静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 精度 管理 系统 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术，未经株式会社日立高新技术许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710084766.2/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光刻装置和器件制造方法
- 下一篇：磁头制造方法及磁头
