[发明专利]垂直磁记录媒质无效
申请号: | 200710085011.4 | 申请日: | 2007-02-28 |
公开(公告)号: | CN101093673A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 李厚山;吴薰翔;孔硕贤;尹成龙 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G11B5/706 | 分类号: | G11B5/706;G11B5/84 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 垂直 记录 媒质 | ||
1、一种垂直磁记录媒质,包括:
形成在衬底上的垂直磁记录层;和
至少一个软磁衬层,形成在所述衬底和所述垂直磁记录层之间,
其中所述软磁衬层由非磁材料和磁材料的合金形成,所述磁材料以粒状纳米颗粒的形式存在于所述非磁材料的基体中,且所述磁纳米颗粒彼此以规则间距分隔开从而相互形成反铁磁耦合。
2、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中所述纳米颗粒之间的距离约为0.5nm~2 nm。
3、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中所述磁材料的组分约为所述软磁衬层的20at%~60at%。
4、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中所述纳米颗粒的直径约为5nm~10nm。
5、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中所述磁材料选自钴Co、铁Fe、钴和铂的合金CoPt、钴和铬的合金CoCr以及镍、铁和钴的合金NiFeCo。
6、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中所述非磁材料选自铜Cu、铝Al、钛Ti、钌Ru和钽Ta。
7、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中所述软磁衬层通过以物理气相沉积在所述衬底上气相沉积所述磁材料和所述非磁材料的合金而形成。
8、根据权利要求1所述的垂直磁记录媒质,其中在气相沉积过程中或之后,所述软磁衬层在150℃~600℃温度退火。
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