[发明专利]光敏硅烷偶联剂、图案的形成方法以及元件的制造方法有效
| 申请号： | 200710088522.1 | 申请日： | 2007-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN101038436A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 伊藤俊树;水谷夏彦;山口贵子;稻生耕久 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;C09C3/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光敏 硅烷偶联剂 图案 形成 方法 以及 元件 制造 | ||
【说明书】：
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