[发明专利]一种金属带材镀膜中提高结合力降低工艺温度的方法

权利要求书

1. 一种金属带材镀膜中提高结合力降低工艺温度的方法，其特征是，金属带材在完成化学清洗后，进入真空室，采用物理气相沉积法-PVD法镀膜前，采用离子束清洗和采用溅射或多弧沉积中间过渡层相结合的方法，本发明采用的方法必须由以下两个步骤结合起来完成：

(1)先采用离子束对金属带材待镀表面进行扫描，以清除吸附气体及微小杂质和‘毛刺’，并对待镀表面进行活化、净化，从而降低了镀膜所需的金属带材表面工艺温度，易于提高膜层结合力；

(2)再采用磁控溅射或多弧沉积法，将溅射或多弧蒸发的高密度无液滴金属等离子体在金属带材待镀表面，首先镀覆，即所谓‘打底’，以获得中间过渡层，从而使后续镀覆的膜层质量优化。

2. 根据权利要求1所述的一种金属带材镀膜中提高结合力降低工艺温度的方法，其特征是，金属带材是移动的或不移动的两种状态均可，所谓离子束在移动金属带材表面扫描，实际是将工业规格卷绕的金属带材卷使其放卷后，离子束相对于移动着的金属带材形成扫描式离子束清洗，金属带材移动速度达10-60m/min，为‘打底’，以获得膜层和金属带材之间的中间过渡层作准备。

3. 根据权利要求1所述的一种金属带材镀膜中提高结合力降低工艺温度的方法，其特征是，所谓的溅射处理是采用磁控溅射法微刻蚀待镀金属带材表面，然后沉积中间过渡层，再在中间过渡层上镀覆膜层，从而提高膜层与金属带材的结合力。

4. 根据权利要求1所述的一种金属带材镀膜中提高结合力降低工艺温度的方法，其特征是，所谓的多弧沉积法是一种高密度无液滴金属等离子体的产生方法，将高密度无液滴金属等离子体沉积于金属带材表面，以获得中间过渡层，这里所谓金属等离子体指的金属是与最终膜层金属相同的金属，如膜层是铬，中间过渡层也是铬，或者与最终膜层金属不相同的金属，如膜层是铬，中间过渡层是钛或镍。