[发明专利]只写一次型的光学记录媒体

权利要求书

1.一种只写一次型的光学记录媒体，可与一写录激光相配合而用于记录资料，之后，再与一再生激光相配合而可读取记录资料，该只写一次型的光学记录媒体包含一片基板，及一层形成于该基板上的镀膜；其特征在于：

该镀膜，包括一层记录层，及一层与该记录层相连接并用于反射该再生激光的反射层；

该记录层的主成分是选自于锗、锑、硅，或此等元素的组合，该反射层的主成分是选自于铝、铜、银、金，或此等元素的组合，当该写录激光射入该镀膜时，会在该记录层与该反射层的界面区域产生局部材料组成变化反应，使得反射率提高，而形成一作为数位讯号来源的记录点。

2.如权利要求1所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的记录层的主成分是原子百分比80以上的锑，该反射层的主成分是银。

3.如权利要求1所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的记录层的主成分是原子百分比80以上的硅，该反射层的主成分是铝。

4.如权利要求1所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的镀膜的记录层与反射层是依序叠置于该基板上，该写录激光是自该基板底面射入该光学记录媒体，并且该基板的材料是选自于玻璃、聚碳酸酯，或聚甲基丙烯酸甲酯，该记录层的厚度是为10nm～100nm，主成分是原子百分比80以上的锗，该反射层的厚度是为80nm～200nm，且主成分为银，并包括一原子百分比0.01～3.0并用于提高该反射层的反射率的第一副成分、一原子百分比0.01～2.0并用于提高该反射层的抗腐蚀性的第二副成分，及一原子百分比0.01～2.0并用于提高该反射层的机械强度的第三副成分，且该第一副成分是选自于钯、铜、铂，或此等的组合，该第二副成分是选自于钪、铍、铝、钛、铬、锌、镍，或此等的组合，该第三副成分是选自于钡、钪、硅、钛、铟、锗、锌、铋，或此等的组合。

5.如权利要求1所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的镀膜还包括一层叠置于该基板上的介电层，并且该记录层与该反射层是依序叠置于该介电层上，该写录激光是自该基板底面射入该光学记录媒体，并被该介电层偏折而垂直射入该记录层，且该基板的材料是选自于玻璃、聚碳酸酯，或聚甲基丙烯酸甲酯，该介电层的厚度是为50nm～300nm，材料是选自于硫化锌-二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氮化钛，或碳化硅，该记录层的厚度是为10nm～100nm，主成分是原子百分比80以上的锗，该反射层的厚度是为80nm～200nm，并且主成分为银，并包括一原子百分比0.01～3.0并用于提高该反射层的反射率的第一副成分、一原子百分比0.01～2.0并用于提高该反射层的抗腐蚀性的第二副成分，及一原子百分比0.01～2.0并用于提高该反射层的机械强度的第三副成分，并且该第一副成分是选自于钯、铜、铂，或此等的组合，该第二副成分是选自于钪、铍、铝、钛、铬、锌、镍，或此等的组合，该第三副成分是选自于钡、钪、硅、钛、铟、锗、锌、铋，或此等的组合。

6.如权利要求5所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的镀膜还包括一层叠置于该反射层上用于避免该反射层遭受破坏的保护层，且该保护层的材料是光硬化树脂。

7.如权利要求1所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的镀膜的反射层与记录层是依序叠置于该基板上，该写录激光是自该镀膜顶面射入该光学记录媒体，并且该基板的材料是选自于玻璃、聚碳酸酯，或聚甲基丙烯酸甲酯，该记录层的厚度是为10nm～100nm，主成分是原子百分比80以上的锗，该反射层的厚度是为80nm～200nm，且主成分是为银，并包括一原子百分比0.01～3.0并用于提高该反射层的反射率的第一副成分、一原子百分比0.01～2.0并用于提高该反射层的抗腐蚀性的第二副成分，及一原子百分比0.01～2.0并用于提高该反射层的机械强度的第三副成分，且该第一副成分是选自于钯、铜、铂，或此等的一组合，该第二副成分是选自于钪、铍、铝、钛、铬、锌、镍，或此等的组合，该第三副成分是选自于钡、钪、硅、钛、铟、锗、锌、铋，或此等的组合。

8.如权利要求7所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的镀膜还包括一层叠置于该记录层上的介电层，该写录激光是自该镀膜顶面射入该光学记录媒体，并被该介电层偏折而垂直射入该记录层，且该介电层的厚度是50nm～300nm，材料是选自于硫化锌-二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氮化钛，或碳化硅。

9.如权利要求8所述的只写一次型的光学记录媒体，其特征在于其中所述的镀膜还包括一层叠置于该介电层上用于避免该介电层遭受破坏的透明的保护层，且该保护层的材料是光硬化树脂。