[发明专利]抗蚀剂成分、形成抗蚀剂图案的方法、基板及其制造方法

说明书

本申请要求享有2006年4月25日递交的韩国专利申请No.2006-36996的优先权，这里引用其全部内容作为参考。

技术领域

本发明涉及压印光刻(imprint lithography)工艺，并尤其涉及用于压印光刻工艺的抗蚀剂成分、采用该抗蚀剂成分形成抗蚀剂图案的方法、采用其制造的阵列基板以及该阵列基板的制造方法。

背景技术

通常，执行多轮薄膜构图工艺来制造显示图像的平板显示元件。

一般而言，采用光刻工艺执行薄膜构图工艺。这里，光刻工艺包括采用曝光和显影工艺在薄膜上形成抗蚀剂图案的步骤，采用该抗蚀剂图案作为蚀刻掩模而蚀刻该薄膜的步骤以及从该薄膜上去除抗蚀剂图案的步骤。

由于执行光刻工艺的设备价格昂贵，因此光刻工艺需要很多的初期投资成本。此外，由于光刻工艺需要价格昂贵的构图掩模，因此降低了光刻工艺的经济效益。而且，由于构图掩模的图案宽度界限，该光刻工艺在制造超精细图案方面存在局限性。

因此，近期人们正在研发不需掩模的压印光刻工艺。该压印光刻印刷工艺在基板上制造诸如压印(imprinting)的抗蚀剂图案，其优势在于可以制造多个精细图案。

该压印光刻工艺包括在基板上形成抗蚀剂层的步骤、通过采用具有规则图案的模具在该抗蚀剂层上压印模制图案的步骤、硬化具有所述模制图案的抗蚀剂层的步骤以及将所述模具与抗蚀剂层分离的步骤。

这里，当抗蚀剂层与模具之间的粘着力大于基板与抗蚀剂层之间的粘着力时，在从该抗蚀剂层分离模具的步骤中当该抗蚀剂层与模具脱落时会形成存在缺陷的抗蚀剂图案。

此外，当模具与抗蚀剂层不容易分离时，该模具会受到损害或者变形。

而且，当模具在部分抗蚀剂层与该模具粘合的状态下与抗蚀剂层分离时，必须要加入从模具上去除该部分抗蚀剂层的清洗步骤。此外，当该模具具有纳米尺寸图案时，采用清洗步骤从模具上去除部分抗蚀剂层更加困难，并需要更换模具。

发明内容

本发明的目的在于提供一种通过在压印光刻步骤中改善模具分离工艺而提高模具的耐用性并防止出现抗蚀剂图案缺陷的抗蚀剂成分、采用该成分形成抗蚀剂图案的方法、采用其的阵列基板以及该阵列基板的制造方法。

根据本发明用于实现上述目的的抗蚀剂成分包括UV固化树脂和添加剂，以及促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的非屏蔽层之间化学接合的附着力促进剂。

根据本发明用于实现本发明上述目的用于形成抗蚀剂图案的方法包括如下步骤：提供基板；在基板上制造抗蚀剂层；向抗蚀剂层提供具有预定图案的模具；随着将模具粘合到抗蚀剂层上而转印形成初始抗蚀剂图案；通过硬化初始抗蚀剂图案形成抗蚀剂图案；以及从抗蚀剂图案上分离模具的步骤。这里，抗蚀剂层上形成的成分包括用于提高基板与抗蚀剂层之间粘合强度的附着力促进剂。

根据本发明的滤色片阵列基板包括：基板；形成在基板上的黑矩阵和滤色片图案，以及设置在黑矩阵和滤色片图案上方并具有凸出部分的涂敷图案，其中所述涂敷图案由包括附着力促进剂的成分形成，所述附着力促进剂用于提高黑矩阵和滤色片图案至少其中之一与所述涂敷图案之间的粘合强度。

本发明用于实现本发明上述目的形成滤色片阵列基板的方法，包括如下步骤：提供基板；在基板上形成黑矩阵；在形成有黑矩阵的基板上形成滤色片图案；通过在所述黑矩阵和滤色片图案上方涂敷一成分而形成涂敷层；将具有预定图案的模具与所述涂敷层粘合而形成具有凸出部分的涂敷图案；以及将模具和涂敷图案分离的步骤。

进而，所述成分包括附着力促进剂，所述附着力促进剂用于提高黑矩阵和滤色片图案至少其中之一与所述涂敷图案之间的粘合强度。

根据用于实现本发明上述目的薄膜晶体管阵列基板，包括：基板；形成在基板上的薄膜晶体管；具有暴露部分薄膜晶体管的接触孔并设置在所述薄膜晶体管上的涂敷图案；以及通过接触孔与所述薄膜晶体管电连接的像素电极。

所述涂敷图案由包括附着力促进剂的成分形成，所述附着力促进剂用于提高钝化图案与包括薄膜晶体管的基板之间的粘合强度。

一种用于制造薄膜晶体管阵列基板的方法，包括如下步骤：提供基板；在该基板上形成薄膜晶体管；通过向包括薄膜晶体管的基板涂敷一成分而形成涂敷层；随着将具有预定图案的模具与所述涂敷层粘合而形成具有暴露部分薄膜晶体管的接触孔的涂覆图案；将所述模具与所述涂覆图案分离；以及形成通过接触孔与所述薄膜晶体管电连接的像素电极。

所述成分包括附着力促进剂，该附着力促进剂用于提高涂覆图案与包括薄膜晶体管的基板之间的粘合强度。

附图说明