[发明专利]在磁盘制造中用于反射UV光线的反射板和UV处理设备

说明书

技术领域

本发明涉及在磁盘制造中用于反射UV光线的反射板和采用该反射板的UV处理设备。

背景技术

用于例如计算机中的诸如磁盘等磁性记录介质通常以高速转动，从而在磁盘与读写头之间形成空气膜。该空气膜将读写头支撑在位于磁盘上方的非接触位置。当磁盘从停止状态开始转动或者它承受机械冲击时，空气膜不能支撑读写头，从而使之接触磁盘，而这将会由于磁性材料的磨损和刮擦导致盘面的损坏。当然，包括磁盘表面与读写头之间长久接触在内的操作也导致显著的力。在具有读写头的磁盘驱动器中，例如硬盘驱动器中，读写头在盘驱动器停止操作时接触磁盘，且通常采用所谓的接触开始停止驱动方法，其中磁盘的驱动从读写头接触磁盘表面的状态下开始。然而，如果盘驱动器在读写头与盘面彼此接触的情况下长时间不用，在读写头与盘之间会发生较大的静态阻力，可能会发生磁盘的转动驱动不能适当进行的情形。

因此，为了解决这一问题，在磁材料层上形成诸如DLC(类金刚石炭)膜等防护层，而在DLC防护层上形成润滑膜。通过在磁盘表面上设置润滑膜，读写头与盘面之间的摩擦得以减小，使得它们的寿命得以延长且操作特性得以改善。

此外，润滑膜在磁盘表面上分布的均匀性也对磁盘和读写头的操作特性具有显著影响。

通常，在润滑膜施加于磁盘表面上后，磁盘需要进一步处理以便润滑膜固化并粘结于磁盘表面。用于处理磁盘的通常方法是向润滑膜照射紫外线(下文简称为UV光线)。

专利文献JP2001-134924A公开了一种通过将UV光线照射到磁盘表面上对磁盘进行处理的设备。在磁盘表面上施加有润滑膜，该润滑膜由具有交联官能团的分子构成，而将UV光线照射到润滑膜上引发交联反应，使得分子构成桥，并因而润滑膜固化并粘接于盘的表面。图1A-1C是示意图，示出了JP2001-134924A中所公开的传统UV处理设备，其中图1A是透视图，图1B是侧视图，而图1C是正视图。如图1A-1C所示，UV固化设备包括反应室41以及传送系统42，在反应室41中，通过将UV光线照射到磁盘的表面上对磁盘进行处理，而传送系统传送并将有待处理的磁盘供送入反应室41中。UV处理设备包括4条作业线，换句话说，可以在反应室中同时处理四个磁盘。

在反应室中，设置有UV光源41A，用于将UV光线照射到磁盘的表面上以便引发交联反应；以及红外光源41B，用于加热磁盘。如图1A-1C所示，UV光源41A包括UV灯41a和位于UV灯41a后面的相关联的反射板41b，反射板41b用于反射来自UV灯41a的光线。类似地，红外光源41B包括红外灯41c和位于红外灯41a后面的相关联的反射板41d，反射板41c用于反射来自红外灯41c的光线。如图1A所示，氮气N2通过进入管41C引入反应室并从排出管41D排出，而温度控制器41c设置在进入管上以调节引入反应室的氮气的温度。通过将氮气引入反应室，磁盘在进行处理时处于氮气环境下以便防止氧化。

下面说明传统UV处理设备的操作。

传送带42C将其上装设有多个磁盘10的传送托架42A传送到磁盘之一与反应室41的开口对准的位置，然后传送工具42B将磁盘移入反应室使得磁盘位于两个红外灯41c之间，并由红外光源41B加热至预期温度。其后，传送工具42B将磁盘移动到位于两个UV灯41a之间的位置，而UV光源41A将UV光线照射到磁盘的表面上以引发交联反应，以使润滑膜固化并粘接于盘面。

通过将UV光线照射于磁盘表面，交联反应被引发，使得润滑膜固化并粘接到磁盘表面，从而形成附着于磁盘表面的润滑膜。

不过，除了别的以外，润滑膜在盘面上分布的均匀性还取决于照射到盘面上的UV光线的均匀性。如果照射到盘面上的UV光线在盘面上不均匀分布，则UV光线的强度将随位置而变化。因此，润滑膜之于盘面的固化率(或称粘结率)将随位置而变化，且相应地，未与盘的基底表面相结合而可以自由移动的活动成分的量将随位置而变化，而这将导致两个问题：

1.由于活动成份可以移动，那么在盘转动时它将移动到盘的边缘部分并聚集在盘外围处，这将导致润滑膜的不均匀分布；以及

2.由于所产生的活动成份的量随位置而变化，活动成份移向盘外围自身导致润滑膜的不均匀分布。

当采用图1所示截面呈V形的反射板41b时，UV光线在盘面上的分布不能令人满意。图2示出了当采用截面呈V形的反射板时UV光线在盘面上的分布。从图2可见，UV光线在盘面上的分布不均匀，具体而言，盘的中央部分比盘的外缘部分具有更浓密的照光强度，从而导致劣化的润滑膜分布。