[发明专利]侧链含芘类衍生物的聚氧硅烷荧光高分子材料及制备方法

权利要求书

1.一种侧链含芘类衍生物的聚氧硅烷荧光高分子，其结构通式如下：

其中，X为聚合度，Y为键桥，为酯基、偶氮基、酰胺基或醚基基团，n和m为柔性间隔的数目，n＝2～10，m＝3、4。

2.权利要求1所述的侧链含芘类衍生物的聚氧硅烷荧光高分子材料的制备方法，其特征在于：它是将具有氧猝灭特性的芘类衍生物，通过氢化硅烷化反应，接枝到聚氧硅烷上，构成具有氧猝灭特性的本征型聚氧硅烷荧光高分子材料。

3.如权利要求2所述侧链含芘类衍生物的聚氧硅烷荧光高分子材料制备方法，其特征是制备方法包括以下步骤：

(1)利用芘类衍生物与脂肪烯类衍生物的反应，它们之间的反应是酯化、偶氮化、酰胺化或成醚反应，它们的摩尔配比为1.0～4.0，合成两端分别含有双键和芘环，中间为脂肪长链的芘类衍生物；

(2)将聚甲基氢硅氧烷与步骤(1)获得的含端基双键芘类衍生物按摩尔配比为1.0～3.0溶解于溶液中，其中聚甲基氢硅氧烷以Si-H计，在催化剂作用下反应，利用聚甲基氢硅氧烷中硅氢基与芘类衍生物中端基双健的氢化硅烷化反应，制备侧链含芘类衍生物的聚氧硅烷荧光高分子；

(3)在步骤(2)的反应液中加入活性碳，过滤，再在滤液中加入沉淀剂，得产物。

4.如权利要求3所述聚氧硅烷荧光高分子制备方法，其特征是所述步骤(1)中的芘类衍生物包括：芘丁酸、芘丁醇或1-芘基-4-氨基-丁烷；脂肪烯类衍生物包括：CH₂＝CH-(CH₂)_n-COOH，CH₂＝CH-(CH₂)_n-OH，CH₂＝CH-(CH₂)_n-NH₂，或CH₂＝CH-(CH₂)_n-Br，其中n＝2～10。

5.如权利要求3所述聚氧硅烷荧光高分子制备方法，其特征是步骤(2)的催化剂采用氯铂酸、金属铂或双环戊二烯氯化铂，用量为0.01～2.00mmol铂催化剂/1mol聚甲基氢硅氧烷，聚甲基氢硅氧烷以Si-H计。

6.如权利要求3所述聚氧硅烷荧光高分子的制备方法，其特征是步骤(2)的溶液为甲苯、四氢呋喃或二氯甲烷。

7.如权利要求3所述聚氧硅烷荧光高分子的制备方法，其特征是步骤(2)的沉淀剂为正己烷、甲醇、乙醇或丙酮。

8.如权利要求3所述聚氧硅烷荧光高分子的制备方法，其特征是在步骤(1)中以正己烷、环己烷、体积比2∶1～2∶3的正己烷∶乙酸乙酯或体积比2∶1～2∶3的己烷∶乙酸乙酯或丙酮为淋洗液。