[发明专利]双扩散场效应晶体管制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制程技术，尤其涉及一种双扩散场效应晶体管制造 方法。

背景技术

对于现有的半导体制程技术，双扩散场效应晶体管(Double Diffuse  Drain MOS，简称DDDMOS)是主流的高压器件结构，广泛应用于驱动芯片 和功率器件。

如图1所示，在现有技术中，一般都是按照如下方法来制造双扩散晶 体管的：

首先，在硅衬底上进行离子注入形成阱区，然后在所述阱区内进行选 择性离子注入，形成漂移区；

然后，在阱区上生长一层栅氧化硅层；

第三步，在所述栅氧华硅层上淀积一层栅多晶硅层；

第四步，使用公知的光刻技术，对所述栅多晶硅层进行刻蚀，形成晶 体管的栅极；

第五步，进行选择性源漏离子注入，形成晶体管的源极和漏极，这时 所形成的双扩散晶体管的剖面结构如图2所示。

由于上述普通制造双扩散晶体管的方法的限制，使得双扩散场效应晶 体管的饱和电流和击穿电压之间很难得到最优化的结果(即保证在一定击 穿电压下，饱和电流达到最大)。这主要是因为上述普通工艺制造得到的 晶体管，漂移区的掺杂分布在沟道方向上(横向方向上)没有一定的浓度 梯度变化，具体如图2所示，所以当为了提高饱和电流而增加漂移区掺杂 浓度的时候，器件漂移区的横向突变结的击穿电压将由于漂移区掺杂浓度 的提高而迅速下降，从而使得整个器件的击穿电压迅速下降。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种双扩散场效应晶体管制造方法， 可使得漂移区的掺杂分布在沟道方向上(横向方向上)具有一定的浓度梯 度变化，从而改变漂移区的横向电场分布，提高晶体管的击穿电压，同时 也可提高晶体管的饱和电流。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种双扩散场效应晶体管制造方 法，包括：

第一步，在硅衬底上进行离子注入形成阱区；

第二步，对所述阱区内进行刻蚀形成沟道；

第三步，对所述硅衬底阱区的位置进行选择性离子注入，形成漂移区；

第四步，在所述硅衬底顶部生长一层栅氧化硅层，然后在所述栅氧化 硅层上淀积一层栅多晶硅层；

第五步，使用光刻技术，对所述栅多晶硅层和所述栅氧化硅层进行刻 蚀，从而形成栅极；

第六步，在所述漂移区内进行选择性源漏离子注入，形成源漏极。

本发明由于采用了上述技术方案，具有这样的有益效果，即通过在衬 底上的阱区内刻蚀形成一具有一定深度的沟道，然后再在阱区内进行漂移 区离子注入形成漂移区，从而使得所述沟道区比漂移区低，因此改变了漂 移区的横向电场分布，大大地提高了晶体管的击穿电压，同时也提高了晶 体管的饱和电流，最终使得本发明所述双扩散场效应晶体管的特性获得了 较大的改善。

附图说明

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

图1为根据现有技术制造的双扩散场效应晶体管流程图；

图2为根据现有技术制造的双扩散场效应晶体管的结构示意图；

图3为根据本发明所述双扩散场效应晶体管制造方法的一个实施例 的流程图；

图4a-4c为在图3所述方法过程中的双扩散场效应晶体管的剖面结构 图。

具体实施方式

在一个实施例中，如图3所示，本发明所述方法包括以下步骤：

第一步，在硅衬底上进行离子注入形成阱区，本领域一般技术人员应 该知道，这时如果所要制造的晶体管为N型晶体管，则这时需注入的离子 应为硼离子；而如果要制造的晶体管为P型晶体管，则这时需注入的离子 应为磷离子。

第二步，对所述阱区内进行刻蚀，形成一深度为500～10000埃的沟 道，所述沟道侧面的倾斜角度为20～60度，这时的剖面结构如图4a所示。

第三步，对所述硅衬底阱区的位置进行选择性离子注入，形成漂移区， 这时的剖面结构如图4b；若所要制造的晶体管为N型晶体管，则这时需 注入的离子应为磷离子；而若要制造的晶体管为P型晶体管，则这时需注 入的离子应为硼离子。并且，在本步中所注入离子的能量和剂量应根据具 体条件和要求的不同而不同，这对于本领域一般技术人员来说，应该是可 以根据实际要求，进行适当选择的。