[发明专利]投影式光刻机有效
| 申请号： | 200710094390.3 | 申请日： | 2007-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN101452212A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 陈福成;王雷 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 投影 光刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种投影式光刻机，其光学系统包括特定的激光光源、光阑、聚光透镜、掩模版、投影透镜，激光光源发出的光通过光阑、聚光透镜和掩模版并经过投影透镜射向晶片，其特征在于，在掩模版和投影透镜之间还包括四个全反射镜：第一个全反射镜的反射面与掩模版平面相对且呈45度夹角，它接受从掩模版平面上出射的光线；第二个全反射镜的反射面与第一个全反射镜的反射面相对，且与第一个全反射镜平行，它接受从第一个全反射镜面反射出的光线；第三个全反射镜的反射面与第二个全反射镜的反射面相对且成90度夹角，它接受第三个全反射镜反射出的光线；第四个全反射镜的反射面与第三个全反射镜的反射面相对，且与第三个全反射镜平行，它接受第三个全反射镜的反射光，并将该光线反射从而照射到投影透镜上，上述第二个全反射镜和第三个全反射镜可以同时在与掩模版平行的方向作平移。
2.根据权利要求2所述的投影式光刻机，其特征在于，第二个全反射镜和第三个全反射镜在与掩模版平行的方向所作的平移量精确到微米。
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