[发明专利]减小SRAM阱邻近效应的方法有效

专利信息
申请号: 200710094484.0 申请日: 2007-12-13
公开(公告)号: CN101458720A 公开(公告)日: 2009-06-17
发明(设计)人: 黄艳;李家豪 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;H01L27/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 李 丽
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 减小 sram 邻近 效应 方法
【权利要求书】:

1.一种减小SRAM阱邻近效应的方法,其特征在于,包括下列步骤,

提供至少三个SRAM初始布图,所述每一个SRAM初始布图中具有邻接边界的相邻N阱和P阱;

将单个SRAM初始布图同一阱中两条边界向相反方向移动相同距离获得对应的SRAM更新布图;所述各个SRAM更新布图N阱宽度不同;

测量至少3个根据SRAM更新布图形成的SRAM器件中同一MOS管的电性参数,得到测得的电性参数变化趋势;

若所测得的电性参数变化趋势与对应目标值的变化趋势相同,则比较所测得电性参数与对应的目标值;

若所测得的电性参数变化趋势与对应目标值的变化趋势不相同,则将单个SRAM初始布图同一阱中两条边界的移动方向取反,并保持移动距离不变来重新获得对应的SRAM更新布图;

若所述测得的电性参数与对应目标值的差值在容忍范围之内,则采用该电性参数对应的SRAM更新布图;

若所测得的电性参数变化趋势与对应目标值的变化趋势相同,所测得的电性参数与对应目标值的差值超出容忍范围,则改变单个SRAM初始布图同一阱中两条边界的移动距离来重新获得对应的SRAM更新布图,直到所测得的根据所述SRAM更新布图形成的SRAM器件的电性参数与对应的目标值差值在容忍范围之内。

2.如权利要求1所述的减小SRAM阱邻近效应的方法,其特征在于,所述测量根据SRAM更新布图形成的SRAM器件的电性参数为测量SRAM器件中同一MOS管的同一种电性参数。

3.如权利要求2所述的减小SRAM阱邻近效应的方法,其特征在于,所述电性参数为MOS管的阈值电压。

4.如权利要求1所述的减小SRAM阱邻近效应的方法,其特征在于,所述将单个SRAM初始布图同一阱中两条边界向相反方向移动相同距离包括,将N阱与P阱邻接的边界向P阱方向移动,N阱的另一条边界移动方向与所述邻接边界移动方向相反,P阱的另一条边界向N阱的方向移动;或者将P阱与N阱的邻接边界向N阱方向移动,P阱的另一条边界的移动方向与所述邻接边界移动方向相反,N阱的另一条边界向P阱的方向移动。

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