[发明专利]热处理炉、平板显示元件制造装置、方法及平板显示元件

权利要求书

1、一种平板显示元件制造用热处理炉，该热处理炉对用于制造平板显示元件的面板上所形成的构造物形成材料层进行热处理，以形成必要的构造物，其特征在于：

所述热处理炉包括：

产生微波的磁控管；

对所述磁控管所产生的微波进行传导的波导管；以及

放电管，其根据通过所述波导管传导的微波和气体供给装置供给的气体来形成微波等离子体，并放出所述形成的等离子体，使其照射到用于制造所述平板显示元件的、形成有构造物形成材料层的面板上。

2、根据权利要求1所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述平板显示元件是等离子体显示面板，所述构造物形成材料层是所述面板的电极形成用焊膏，所述构造物是所述面板的电极，所述热处理是所述电极形成用焊膏的烧成。

3、根据权利要求1所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述平板显示元件是液晶显示元件，所述构造物形成材料层是所述面板的经溅射的金属薄膜，所述构造物是所述面板的电极，所述热处理是所述电极形成用金属薄膜的均匀化。

4、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述微波等离子体是常压微波等离子体，所述热处理炉由入口部和出口部向外部开放的腔室形成。

5、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述微波等离子体是常压微波等离子体，所述热处理炉由入口部和出口部相对于外部密闭的腔室形成。

6、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述热处理炉的所述放电管固定，移送所述面板。

7、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述热处理炉的所述面板被固定，移送所述放电管。

8、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述磁控管的频带为2.45GHz。

9、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述热处理炉还包含三短线调谐器，其通过对所述微波进行调整以增大输出。

10、根据权利要求1至3中任意一项所述的平板显示元件制造用热处理炉，其特征在于：

所述放电管在热处理炉中沿着与面板的移送方向垂直的方向并排配置多个。

11、一种平板显示元件制造装置，其特征在于：

所述平板显示元件制造装置包含权利要求1至3中任意一项的平板显示元件制造用热处理炉。

12、根据权利要求11所述的平板显示元件制造装置，其特征在于：

所述平板显示元件制造装置还包括：

干燥炉，该干燥炉在所述热处理炉的前端与其连续连接，对平板显示元件制造用面板进行干燥，并将其提供给所述热处理炉，以及

冷却部，该冷却部在所述热处理炉的后端与其连续连接，对经热处理的平板显示元件制造用面板进行冷却。

13、一种平板显示元件的制造方法，该方法经用于除去形成有平板显示元件制造用构造物形成材料层的面板上的有机物的干燥工序后，为了形成构造物，对所述材料层进行热处理，其特征在于：

所述热处理向基板上照射微波等离子体，来加热所述构造物形成材料层。

14、根据权利要求13所述的平板显示元件的制造方法，其特征在于：

由如下的热处理炉进行所述热处理，该热处理炉包括：产生微波的磁控管；对所述磁控管所产生的微波进行传导的波导管；以及放电管，该放电管根据通过所述波导管传导的微波和气体供给装置供给的气体来形成常压微波等离子体，并放出所述形成的等离子体，使其照射到形成有所述平板显示元件制造用构造物形成材料层的面板上。

15、一种平板显示元件，其在平板显示装置中使用，其特征在于：

所述平板显示元件由权利要求13或14的平板显示元件的制造方法制造。