[发明专利]全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法有效
| 申请号： | 200710095844.9 | 申请日： | 2007-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN101281760A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 吉沢久江;三锅治郎;小笠原康裕;河野克典;林和广;安田晋;羽贺浩一;古木真 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24;G11B7/0065 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰;谢栒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 全息 记录 材料 介质 方法 | ||
1. 一种用于至少通过光照射来记录信息的全息记录材料，所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用的光的波长的十分之一以下的颗粒。
2. 如权利要求1所述的全息记录材料，其中，所述记录材料中的所述液晶分子的含量为5重量％以上。
3. 如权利要求1所述的全息记录材料，其中，所述光响应性分子是光响应性聚合物。
4. 如权利要求3所述的全息记录材料，其中，所述光响应性聚合物在侧链中具有包含偶氮苯骨架的可光异构化基团。
5. 如权利要求1所述的全息记录材料，其中，所述颗粒与所述液晶分子的比率为0.01重量％以上。
6. 如权利要求1所述的全息记录材料，其中，所述颗粒与所述液晶分子的比率为0.1重量％～5重量％。
7. 如权利要求1所述的全息记录材料，其中，所述颗粒的材料是二氧化硅、金属氧化物或树脂。
8. 一种用于至少通过光照射来记录信息的全息记录介质，所述全息记录介质包含含有全息记录材料的记录层，所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用光的波长的十分之一以下的颗粒。
9. 如权利要求8所述的全息记录介质，其中，所述记录材料中的所述液晶分子的含量为5重量％以上。
10. 如权利要求8所述的全息记录介质，其中，所述光响应性分子是光响应性聚合物。
11. 如权利要求10所述的全息记录介质，其中，所述光响应性聚合物在侧链中具有包含偶氮苯骨架的可光异构化基团。
12. 如权利要求8所述的全息记录介质，其中，所述颗粒与所述液晶分子的比率为0.01重量％以上。
13. 如权利要求8所述的全息记录介质，其中，所述颗粒与所述液晶分子的比率是0.1重量％～5重量％。
14. 如权利要求8所述的全息记录介质，其中，所述颗粒的材料是二氧化硅、金属氧化物或树脂。
15. 一种全息记录方法，所述全息记录方法包括：
当同时向全息记录介质照射信号光和参考光来记录信息时，通过使用光强度调制或光偏振调制中的至少一种进行所述信息的多重记录，
所述全息记录介质具有包含光响应性分子、液晶分子和颗粒的记录层，而且
所述颗粒的平均粒径为所述信号光的波长的十分之一以下。
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