[发明专利]磁共振图像诊断装置和静磁场修正方法有效
申请号: | 200710096123.X | 申请日: | 2007-04-13 |
公开(公告)号: | CN101055307A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 池户雅人 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社 |
主分类号: | G01R33/20 | 分类号: | G01R33/20;G01R33/38;A61B5/055 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁共振 图像 诊断 装置 和静 磁场 修正 方法 | ||
技术领域
本发明涉及具备修正静磁场的不均匀成分的功能的磁共振图像诊断 装置、该磁共振图像诊断装置的静磁场修正方法。
背景技术
在磁共振成像(MRI)中,在各种各样的摄像法中都要求非常高的 静磁场均匀性,修正静磁场的不均匀性的所谓磁场调整(shimming)非 常重要。磁场调整大致区分为被动磁场调整和主动磁场调整。被动磁场 调整通过将铁片(shim)等配置在静磁场磁铁所产生的静磁场中,来使 摄像区域中的静磁场均匀。主动磁场调整通过将由磁场调整线圈产生的 修正磁场与静磁场磁铁产生的静磁场重叠,来使摄像区域中的静磁场均 匀。在近年的磁共振成像中,主动磁场调整非常重要,因此以下说明该 主动磁场调整,并简记为磁场调整。
可以分为0次成分X0、Y0、Z0、1次成分X1、Y1、Z1、以及2次成 分X2、Y2、Z2、XY、ZY、ZX等各成分地表示静磁场的不均匀性。也 存在3次或以上更高次的成分。
一般对上述那样的每个不均匀成分进行磁场调整。其中,由于需要 与所修正的成分一对一对应的磁场调整线圈,所以一般缩小范围到1次 成分或2次成分地对成分进行修正。
在磁场调整计算中,实际进行用于测量关注区域中的磁场分布的信 号收集,对作为磁场调整对象的每个磁场成分展开磁场分布,求出抵消 静磁场的不均匀成分的修正磁场。另外,计算出为了产生上述修正磁场 而应该提供给各磁场调整线圈的电流值,即修正值。例如设均匀的磁场 强度的基准值为B0,直到1次成分为止求出磁场分布而进行磁场调整, 进而为了简化,如果在磁场分布的展开式中,不考虑X方向和Y方向 而只考虑Z方向,则针对直到1次为止展开了磁场分布的结果的公式 C1Z+C0+B0,产生1次成分的修正值为-C1,0次成分的修正值为- C0。
另外,通过特公平3-51172号公报可以知道与磁场调整有关的现有 技术。
但是,由于能够对磁场调整线圈设置的电流有上限,所以如果磁场 调整的修正值为超过其能够允许的上限的值,则不能进行适当的修正。 当然,即使在这些情况下,也对磁场分布进行成分展开并计算,因此能 够求出磁场调整的修正值,但由于是在受到磁场调整线圈的允许电流值 等的制约的影响的情况下计算出的结果,所以求出的修正磁场有可能不 符合实际的磁场分布。
根据这样的情况,要求能够得到适当的修正磁场,提高静磁场均匀 性。
发明内容
本发明的第一形式的磁共振图像诊断装置具备:产生静磁场的产生 部件;测量上述静磁场的强度分布特性的测量部件;通过将与上述强度 分布特性中的1次~n次(n为2或以上的自然数)的各成分中的一部 分,即特定成分有关的修正量固定为规定量,同时根据上述强度分布特 性求出与上述特定成分以外的成分有关的修正量,来决定与上述1次~ n次的各成分有关的修正量的决定部件;根据上述修正量,产生用于修 正上述静磁场的修正磁场的修正磁场产生部件。
本发明的第二形式的磁共振图像诊断装置具备:产生静磁场的产生 部件;测量上述静磁场的强度分布特性的测量部件;通过将与上述强度 分布特性中的1次~n次(n为2或以上的自然数)的各成分中的一部 分,即特定成分有关的修正量固定为规定量,同时根据上述强度分布特 性求出与上述特定成分以外的成分有关的修正量,来决定与上述1次~ n次的各成分有关的修正量的第一决定部件;通过根据上述强度分布特 性,求出分别与上述1次~n次的各成分有关的修正量,来决定与上述 1次~n次的各成分有关的修正量的第二决定部件;如果由上述第一决 定部件决定的修正量没有超过阈值,则选择该修正量,在由上述第一决 定部件决定的修正量超过阈值的情况下,针对相同成分选择由上述第二 决定部件决定的修正量的选择部件;根据选择出的上述修正量,产生用 于修正上述静磁场的修正磁场的修正磁场产生部件。
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