[发明专利]薄膜型电子源无效

专利信息
申请号: 200710097045.5 申请日: 2007-04-12
公开(公告)号: CN101055824A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 岩崎富生 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H01J1/312 分类号: H01J1/312;H01J29/04;H01J9/02;H01J31/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 电子
【权利要求书】:

1.一种薄膜型电子源,其特征在于:

包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,

上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、中间层、表面层的结构,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。

2.一种薄膜型电子源,其特征在于:

包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,

上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Al,上述绝缘层的构成材料为Al2O3,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。

3.一种薄膜型电子源,其特征在于:

包括衬底、在上述衬底的一个主表面一侧形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极;

上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、第1中间层、第2中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Al,上述绝缘层的构成材料为Al2O3,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述第1中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述第2中间层的构成材料为Pt,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。

4.一种薄膜型电子源,其特征在于:

包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,

上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Ti,上述绝缘层的构成材料为TiO2,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。

5.一种薄膜型电子源,其特征在于:

包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,

上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、第1中间层、第2中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Ti,上述绝缘层的构成材料为TiO2,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述第1中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述第2中间层的构成材料为Pt,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。

6.一种薄膜型电子源,其特征在于:

包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,

上述上部电极是从上述绝缘层侧层积基础层、第1中间层、第2中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Ti,上述绝缘层的构成材料为TiO2,上述基础层的构成材料为Ir或Ru,上述第1中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述第2中间层的构成材料为Pt,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710097045.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top