[发明专利]薄膜型电子源无效
申请号: | 200710097045.5 | 申请日: | 2007-04-12 |
公开(公告)号: | CN101055824A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 岩崎富生 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | H01J1/312 | 分类号: | H01J1/312;H01J29/04;H01J9/02;H01J31/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 电子 | ||
1.一种薄膜型电子源,其特征在于:
包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,
上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、中间层、表面层的结构,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。
2.一种薄膜型电子源,其特征在于:
包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,
上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Al,上述绝缘层的构成材料为Al2O3,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。
3.一种薄膜型电子源,其特征在于:
包括衬底、在上述衬底的一个主表面一侧形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极;
上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、第1中间层、第2中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Al,上述绝缘层的构成材料为Al2O3,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述第1中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述第2中间层的构成材料为Pt,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。
4.一种薄膜型电子源,其特征在于:
包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,
上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Ti,上述绝缘层的构成材料为TiO2,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。
5.一种薄膜型电子源,其特征在于:
包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,
上述上部电极是从上述绝缘层侧层积第1基础层、第2基础层、第1中间层、第2中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Ti,上述绝缘层的构成材料为TiO2,上述第1基础层的构成材料为IrO2或RuO2,上述第2基础层的构成材料为Ir或Ru,上述第1中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述第2中间层的构成材料为Pt,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。
6.一种薄膜型电子源,其特征在于:
包括衬底、上述衬底的一个主表面一侧上形成的下部电极、与上述下部电极相接触地形成的绝缘层、以及与上述绝缘层相接触地形成的上部电极,
上述上部电极是从上述绝缘层侧层积基础层、第1中间层、第2中间层、表面层的结构,上述下部电极的构成材料为Ti,上述绝缘层的构成材料为TiO2,上述基础层的构成材料为Ir或Ru,上述第1中间层的构成材料为从PtIr、PtRu、PtRh的组中选择的一种,上述第2中间层的构成材料为Pt,上述表面层的构成材料为从Au、Ag的组中选择的一种。
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