[发明专利]一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置

权利要求书

1、一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，包括反应室(4)、射频电源(5)、单体蒸气产生瓶(1)、介质气体瓶和真空泵(7)；所述单体蒸气产生瓶(1)、介质气体瓶和真空泵(7)分别通过管道与反应室(4)连接，所述射频电源(5)连接一射频放电线圈，该射频放电线圈缠绕在反应室(4)容器的外壁上；所述介质气体瓶中的介质气体是氦气、氖气、氩气、氪气、氙气或氮气。

2、按权利要求1所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，其特征在于，还包括使样品颗粒弥散在反应室(4)中的机构。

3、按权利要求1所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，其特征在于，所述单体蒸气产生瓶(1)、介质气体瓶与反应室(4)连接的管道上分别设有流量控制器(3)。

4、按权利要求1所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，其特征在于，所述反应室(4)还连接一真空计(6)。

5、按权利要求1、2或3所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，其特征在于，在进行等离子镀膜时，所述反应室(4)中的样品颗粒靠反应气体的流动吹起并弥散在反应室(4)中。

6、按权利要求1、2或3所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，其特征在于，在进行等离子镀膜时，所述反应室(4)中的样品颗粒靠磁力搅拌器将颗粒搅拌并弥散在反应室(4)中。

7、按权利要求1、2或3所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜装置，其特征在于，在进行等离子镀膜时，所述反应室(4)的样品颗粒由电动机驱动的叶片搅拌并弥散在反应室(4)中。

8、一种用于颗粒表面改性的等离子镀膜方法，包括如下步骤：

1)首先将样品颗粒置于反应室(4)内；

2)用真空泵(7)对反应室(4)降压，然后将介质气体瓶中的介质气体和单体蒸气产生瓶(1)中的单体蒸气引入反应室(4)；

3)最后，开启射频电源(5)，使得反应室(4)中产生辉光放电，从而在样品颗粒表面形成均匀的薄膜。

9、按权利要求8所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜方法，其特征在于，所述步骤3)中，在开启射频电源(5)前，首先使得样品颗粒弥散在反应室(4)中。

10、按权利要求8所述的用于颗粒表面改性的等离子镀膜方法，其特征在于，所述步骤2)中，通过控制反应室(4)的工作压力以及反应室(4)中介质气体和单体蒸气的浓度来实现薄膜厚度可控。