[发明专利]平面式磁控溅射便携插件式增磁装置无效
| 申请号： | 200710099492.4 | 申请日： | 2007-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101050520A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 刁训刚;王怀义;杜心康;杨海刚;郝维昌;王天民 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平面 磁控溅射 便携 插件 式增磁 装置 | ||
1、平面式磁控溅射便携插件式增磁装置，其特征在于包括：附加中心圆柱形永磁强磁体(1)、附加环形永磁强磁体(2)、内散热环(3)和外散热环(4)、阴极罩(5)和阳极罩(6)，附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和设备阴极靶位固有的内置中心圆柱形永磁强磁体(8)同极性相互加强对应放置，附加环形永磁强磁体(2)和内置环形永磁强磁体(9)同极性相互加强对应放置；在附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和附加环形永磁强磁体(2)之间放置内散热环(3)，在附加环形永磁强磁体(2)外放置外散热环(4)；靶材(7)罩有阴极罩(5)和阳极罩(6)，和外散热环(4)罩有阴极罩(5)和阳极罩(6)，分别用于固定保护靶材(7)和外散热环(4)；附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和附加环形永磁强磁体(2)与阴极靶位平面(10)接触，不与内散热环(3)、外散热环(4)和靶材(7)接触。
2、根据权利要求1所述的平面式磁控溅射便携插件式增磁装置，其特征在于：所述的附加中心圆柱形永磁强磁体(1)和附加环形永磁强磁体(2)的材料为铷铁硼强磁性材料。
3、根据权利要求1所述的平面式磁控溅射便携插件式增磁装置，其特征在于：所述的附加中心圆柱形永磁强磁体(1)的直径与设备阴极靶位固有内置中心圆柱形永磁强磁体(8)的直径相同；附加环形永磁强磁体(2)的内径大于或等于设备阴极靶位固有内置环形永磁强磁体(9)的内径，附加环形永磁强磁体(2)的外径小于或等于设备阴极靶位固有内置环形永磁强磁体(9)的外径。
4、根据权利要求1所述的平面式磁控溅射便携插件式增磁装置，其特征在于：所述的附加中心圆柱形永磁强磁体(1)与附加环形永磁强磁体(2)的高度相同且均不小于设备固有的内置中心圆柱形永磁强磁体(8)和内置环形永磁强磁体(9)的高度。
5、根据权利要求1所述的平面式磁控溅射便携插件式增磁装置，其特征在于：内散热环(3)和外散热环(4)的材料为铜。
6、根据权利要求1所述的平面式磁控溅射便携插件式增磁装置，其特征在于：所述的阴极罩(5)和阳极罩(6)的材料均为不锈钢。
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