[发明专利]紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置

权利要求书

1.紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置，其特征在于：它包括主机大基板(1)、压模移动台系统(2)、均匀照明系统(3)、压模架(4)、压模(5)或掩模(5’)、基片(6)或硅片(6’)、对准系统(7)、照明均匀性检测系统(8)、花样镜(15)或压镜(15′)和控制系统(9)；在主机大基板(1)上分别固定有压模移动台系统(2)和位于压模移动台系统一侧的照明均匀性检测系统(8)，其中照明均匀性检测系统(8)通过支架(13)与主机大基板(1)连接；压模移动台系统(2)安放于主机大基板(1)的中心，由位于底层的XY手动台(21)和通过连接座(10)与XY手动台(21)连接的XY压模移动台(22)组成，XY压模移动台(22)上支撑和吸附了压模架(4)，压模架(4)通过花样镜(15)或压镜(15’)吸附着压模(5)或掩模(5’)；压模(5)或掩模(5’)也位于XY压模移动台(22)和XY手动台(21)两工作台上，并随着它们的运动而移动，压模(5)或掩模(5’)的中心位于均匀照明系统(3)的照明光轴的下方，调节XY手动台(21)用于对压模(5)或掩模(5’)观察对准调整；基片(6)或硅片(6’)被吸附于位于压模移动台系统(2)内腔的基片升降系统(23)的承片调平系统(24)上，其中心也正对照明系统(3)的照明光轴；均匀照明系统(3)通过垂直旋转轴(12)和支撑座(11)与主机大基板(1)连接，其照明光轴正位于压模架(4)、压模(5)或掩模(5’)及基片(6)或硅片(6’)的正上方，对准系统(7)连接在均匀照明系统(3)的一侧，均匀照明系统(3)和对准系统(7)整体可绕垂直旋转轴(12)在水平方向旋转，对准系统(7)可以前后移动，XY压模移动台(22)、均匀照明系统(3)和照明均匀性检测系统(8)的探测输出信号送入至控制系统(9)进行处理，同时控制系统(9)控制信号输出至XY压模移动台(22)和均匀照明系统(3)用于压模移动、Hg灯恒光强和光强积分快门的控制，在控制系统(9)控制下进行掩模移动和积分快门的开启与关闭，完成压印和曝光光刻。

2.根据权利要求1所述的紫外光照微纳图形气压压印和光刻两用复制装置，其特征在于：在所述的连接座(10)侧面安有气缸(401)，气缸(401)的顶杆凸头正靠压模架(4)的下端面，顶杆凸头上升可使压模(5)在压印固化后和基片(6)脱离。