[发明专利]氧化钇组合物及其制备方法以及利用该组合物形成氧化钇层的方法无效

专利信息
申请号: 200710100869.3 申请日: 2007-04-20
公开(公告)号: CN101062841A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 郑大洪;赵硕显;朴泰晧;谢尔盖·K·叶夫斯特罗皮耶夫;李岏义;金泳洙;朴在锡 申请(专利权)人: 三星康宁株式会社
主分类号: C03C17/23 分类号: C03C17/23;C09K9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 氧化钇 组合 及其 制备 方法 以及 利用 形成
【权利要求书】:

1.一种包含颗粒尺寸等于或小于25nm的氧化钇颗粒的氧化钇组合物,其中该组合物的pH值在3.7至7范围内。

2.按照权利要求1所述的氧化钇组合物,其中该组合物还包含氧化硼。

3.一种制备氧化钇组合物的方法,其中该方法包括:将钇盐溶解于溶剂中制备钇盐溶液;向所述的钇盐溶液中加入碱性化合物来调节pH值在3.7至7的范围内,从而形成颗粒尺寸等于或小于25nm的氧化钇组合物。

4.按照权利要求3所述的方法,其中所述钇盐溶液的浓度为0.01M至1.0M。

5.按照权利要求3所述的方法,其中钇盐溶液包含至少一种选自硝酸钇、乙酸钇和氯化钇中的物质。

6.按照权利要求3所述的方法,其中所述的溶剂包含水或醇。

7.按照权利要求3所述的方法,其中所述的钇盐溶液还包含硼化物。

8.按照权利要求3所述的方法,其中所述的碱性化合物包含铵化合物。

9.一种形成氧化钇层的方法,该方法包括:

将钇盐溶解于溶剂中形成钇盐溶液;

向该钇盐溶液中加入碱性化合物调节pH值到3.7至7的范围内,从而形成包含颗粒尺寸等于或小于25nm的氧化钇颗粒的氧化钇组合物;和

用所述的氧化钇组合物喷涂主体,从而形成氧化钇层。

10.按照权利要求9所述的方法,该方法还包含包括通过在490℃至600℃热处理涂布的氧化钇层而进行的煅烧。

11.按照权利要求9所述的方法,其中所述的主体为玻璃基底或形成于所述玻璃基底上的荧光层。

12.一种包含涂层的表面光源用基底,所述的涂层形成于基底上并且由颗粒尺寸等于或小于25nm的氧化钇颗粒的氧化钇组合物形成,其中该组合物的pH值在3.7至7范围内。

13.按照权利要求12所述的基底,其中所述的涂层形成在基底表面上形成的荧光层的表面上。

14.一种包含涂层的放电器件,所述的涂层形成在基底上并且由含有颗粒尺寸等于或小于25nm的氧化钇颗粒的氧化钇组合物形成,其中该组合物的pH值在3.7至7范围内。

15.按照权利要求14所述的放电器件,其中该放电器件为背光用荧光灯或等离子体显示板(PDP)。

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