[发明专利]磁极,具有该磁极的磁写头,及其制造方法

权利要求书

1.一种制造垂直磁写头的磁极的方法，该方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上沉积导电籽层；

在所述籽层上沉积光致抗蚀剂材料层；

光刻地曝光和显影所述光致抗蚀剂材料从而在所述光致抗蚀剂材料中形成开口；以及

电镀磁材料到所述光致抗蚀剂材料中的开口中从而形成写极。

2.如权利要求1所述的方法，在电镀磁材料到所述光致抗蚀剂材料中的开口中之后，还包括：

去除所述光致抗蚀剂材料；及

去除所述籽层的未被所述写极覆盖的部分。

3.如权利要求1所述的方法，在电镀磁材料到所述光致抗蚀剂材料中的开口中之后，还包括：

去除所述光致抗蚀剂材料；及

进行离子研磨从而去除所述导电籽层的未被所述写极保护的部分。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述光致抗蚀剂层是定角光致抗蚀剂。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述导电籽层是非磁材料。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述导电籽层包括Rh。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述光致抗蚀剂是定角光致抗蚀剂，且所述光刻地曝光和显影在所述光致抗蚀剂材料中产生开口或槽，所述开口或槽具有相对于所述衬底定义78-82度角的侧壁。

8.如权利要求1所述的方法，其中电镀磁材料包括电镀磁和非磁材料的交替层。

9.一种制造用于垂直磁数据记录的磁写头的方法，该方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上沉积导电籽层；

沉积光致抗蚀剂材料；

光刻地曝光和显影所述光致抗蚀剂材料从而在所述光致抗蚀剂材料中形成开口；

沉积化学收缩材料；

烘焙所述光致抗蚀剂材料从而使所述收缩材料的部分与所述光致抗蚀剂材料结合；

去除所述化学收缩材料的未结合部分并留下所述化学收缩材料的已经结合到所述光致抗蚀剂材料的部分；及

电镀磁材料到所述光致抗蚀剂材料中的开口中从而形成写极。

10.如权利要求9所述的方法，在电镀磁材料到所述光致抗蚀剂材料中的开口中之后，还包括：

去除所述光致抗蚀剂材料和化学收缩材料；及

进行离子研磨从而去除所述籽层的未被所述写极覆盖的部分。

11.如权利要求9所述的方法，其中去除所述化学收缩材料的未结合部分包括在水中漂洗。

12.如权利要求9所述的方法，还包括毯式曝光所述光致抗蚀剂从而产生酸以用于增加所述化学收缩材料与光致抗蚀剂之间的结合。

13.如权利要求9所述的方法，其中所述光致抗蚀剂是定角光致抗蚀剂，且其中所述曝光和显影在所述光致抗蚀剂中产生开口，所述开口具有相对于所述衬底定义78-82度角的侧壁。

14.如权利要求9所述的方法，其中所述导电籽层是非磁的。

15.如权利要求9所述的方法，其中所述导电籽层包括Rh。

16.一种制造用于垂直磁记录的磁写头的方法，该方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上沉积导电籽层；

在所述导电籽层上沉积光致抗蚀剂材料；

光刻地曝光和显影所述光致抗蚀剂层从而在所述光致抗蚀剂层中形成开口；

电镀磁材料到所述光致抗蚀剂层中的开口中从而形成写极；

在所述写极上沉积非磁硬掩模；

去除所述光致抗蚀剂；及

进行离子研磨来去除所述写极的侧部分从而减小所述写极的宽度。

17.如权利要求16所述的方法，其中所述离子研磨还去除所述导电籽层的未被所述写极保护的部分。

18.如权利要求16所述的方法，其中所述离子研磨相对于所述衬底以一角度执行。

19.如权利要求16所述的方法，其中所述离子研磨是扫描离子研磨。

20.如权利要求16所述的方法，其中所述离子研磨是反应离子研磨。