[发明专利]用于磁盘的玻璃基板的制造方法以及磁盘无效

专利信息
申请号: 200710102496.3 申请日: 2007-04-27
公开(公告)号: CN101064121A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 宮谷克明;宮原修;田辺譲;臼井寛;別府義久;砂原一夫;堀江満;柏原智;酒井智弘;金喜則;吉田伊織 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;G11B5/73;C09K3/14
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沙永生
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 磁盘 玻璃 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种通过对圆形玻璃板进行抛光来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,该方法包括以下步骤:使用包含CeO2晶体粉末的浆液对所述圆形玻璃板的主平面进行抛光,所述CeO2晶体粉末通过以下方式制得:使包含CeO2的熔体骤冷,以得到无定形材料,对所述无定形材料进行热处理,以得到沉淀了CeO2晶体的无定形材料,对该沉淀了CeO2晶体的无定形材料进行酸处理,以从其中分离和提取CeO2晶体粉末,其中所述熔体包含5-50摩尔%的CeO2,总共10-50摩尔%的至少一种选自MgO、CaO、SrO和BaO的碱土金属氧化物,以及30-75摩尔%的B2O3

2.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,在所述熔体中,CeO2的摩尔百分数含量与碱土金属氧化物和B2O3的总摩尔百分数含量之比为5∶95至50∶50。

3.如权利要求1或2所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,在所述熔体中,在仅有一种氧化物的情况下,所述碱土金属氧化物的摩尔百分数含量,或者在具有至少两种氧化物的情况下,所述碱土金属氧化物总摩尔百分数含量与B2O3的摩尔百分数含量之比为20∶80至80∶20。

4.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述无定形材料是片状的或纤维状的。

5.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述沉淀了CeO2晶体的无定形材料是通过在600-900℃对所述无定形材料进行热处理而制得的。

6.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,通过使用选自乙酸、盐酸、硝酸、草酸和柠檬酸的至少一种酸对所述无定形材料进行酸处理,从而从所述沉淀了CeO2晶体的无定形材料中分离和提取所述CeO2晶体粉末。

7.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,通过X射线法测得,所述CeO2晶体粉末的平均粒度为5-50纳米。

8.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆液中CeO2晶体粉末的含量为0.1-5质量%。

9.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,通过动态光散射法测得,在浆液中,微粒的中值粒径为10-300纳米。

10.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆液包含水。

11.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆液包含选自甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇和丙二醇的至少一种醇。

12.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆液的pH值为5-12。

13.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆液包含具有羧酸基或羧酸根的水溶性有机聚合物。

14.如权利要求13所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述具有羧酸基或羧酸根的水溶性有机聚合物是选自以下的至少一种水溶性有机聚合物:聚丙烯酸、聚丙烯酸铵、聚丙烯酸钠、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酸铵、聚甲基丙烯酸钠、聚酰胺、聚酰胺酸铵盐和聚酰胺酸钠盐。

15.如权利要求1所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述浆液包含具有乙烯基的水溶性有机聚合物。

16.如权利要求15所述的用来制造用于磁盘的玻璃基板的方法,其特征在于,所述具有乙烯基的水溶性有机聚合物是聚乙烯醇或聚乙烯基吡咯烷酮。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社,未经旭硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710102496.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top