[发明专利]光刻设备和装置制造方法

权利要求书

1.一种物品支架，其构造成支持针对光刻工艺的物品，所述物品支架包括布置成引导所述物品支架内的热稳定介质从而为所述物品提供热稳定的通道配置，其中所述通道配置包括输入通道结构和输出通道结构，所述输入和输出通道结构被以交替方式布置以提供巢状配置并通过设置于所述物品支架表面上或附近的精细栅格结构而相互连接。

2.权利要求1所述的物品支架，其中所述精细栅格结构包括致密微通道结构、包括分隔上壁和下壁的多个分隔引脚的引脚结构、多孔结构，或者它们的任意组合。

3.权利要求1或2所述的物品支架，其中所述输入和输出通道结构设置为粗略栅格配置。

4.权利要求1或2所述的物品支架，其中所述输入和输出通道结构设置为与所述精细栅格结构相比更远离所述物品。

5.权利要求4所述的物品支架，其中所述输入和输出通道结构设置于隔热材料内，且所述精细栅格结构设置于导热材料内。

6.权利要求5所述的物品支架，其中所述隔热材料包括Zerodur、ULE、堇青石或其任意组合，所述导热材料包括SiSiC、SiC或二者。

7.权利要求1或2所述的物品支架，其中所述输入通道结构、所述输出通道结构、或二者的通道宽度大于所述精细栅格结构的通道宽度。

8.权利要求1或2所述的物品支架，其中所述巢状配置包括外围输入流通道和外围输出流通道的巢状梳式配置，所述外围输入和输出流通道分支形成布置成巢状梳齿的输入和输出流通道。

9.权利要求8所述的物品支架，其中所述精细栅格结构包括与所述梳齿横切的基本上平行的通道。

10.权利要求1或2所述的物品支架，其中所述巢状配置包括径向取向的输入流通道和径向取向的输出流通道，所述径向输入和输出流通道分支形成交替布置成同心的输入和输出流通道。

11.权利要求10所述的物品支架，其中所述精细栅格结构包括横切所述同心的输入和输出流通道的径向通道。

12.权利要求1或2所述的物品支架，其中所述输入和输出通道结构包括剖面宽度大于1mm的通道，其中所述精细栅格结构包括剖面宽度不大于1mm的通道，或两者都满足。

13.一种光刻设备，包括：

投影系统，配置成把构图装置图案化的辐射束投影到衬底的目标部分；以及

物品支架，构造成支持所述构图装置、所述衬底或二者，所述物品支架包括布置成引导所述物品支架内的热稳定介质从而为所述构图装置、所述衬底或二者提供热稳定的通道配置，其中所述通道配置包括输入通道结构和输出通道结构，所述输入和输出通道结构被以交替方式布置以提供巢状配置并通过设置于所述物品支架表面上或附近的精细栅格结构而相互连接。

14.权利要求13所述的光刻设备，其中所述巢状配置包括外围输入流通道和外围输出流通道的巢状梳式配置，所述外围输入和输出流通道分支形成布置成巢状梳齿的输入和输出流通道。

15.权利要求13所述的光刻设备，其中所述巢状配置包括径向取向的输入流通道和径向取向的输出流通道，所述径向输入和输出流通道分支形成交替布置成同心的输入和输出流通道。

16.权利要求13所述的光刻设备，其中所述输入和输出通道结构设置为与所述精细栅格结构相比更远离所述构图装置，所述衬底或二者。

17.权利要求13至16中任一项所述的光刻设备，其中所述输入和输出通道结构包括剖面宽度大于1mm的通道，其中所述精细栅格结构包括剖面宽度不大于1mm的通道，或两者都满足。

18.一种浸渍光刻设备，包括：

投影系统，配置成把构图装置图案化的辐射束投影到衬底的目标部分；

液体供给系统，配置成将液体供给到所述衬底和所述投影系统之间；以及

物品支架，构造成支持所述构图装置、所述衬底或二者，所述物品支架包括布置成引导所述物品支架内的热稳定介质从而为所述构图装置、所述衬底或二者提供热稳定的通道配置，其中所述通道配置包括输入通道结构和输出通道结构，所述输入和输出通道结构被以交替方式布置以提供巢状配置并通过设置于所述物品支架表面上或附近的精细栅格结构而相互连接。