[发明专利]光记录介质制造用片材和光记录介质、及它们的制造方法无效
申请号: | 200710102926.1 | 申请日: | 2007-05-11 |
公开(公告)号: | CN101071592A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 伊藤雅春;本乡有记;大类知生 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | G11B7/252 | 分类号: | G11B7/252;G11B7/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 制造 用片材 它们 方法 | ||
1.光记录介质制造用片材,具有基材和层合于该基材上的能量线固化性层,其特征在于,上述能量线固化性层为半固化状态,且粘接力在10mN/25mm以上。
2.权利要求1所述的光记录介质制造用片材,其特征在于,上述能量线固化性层是以含有聚合性双键的能量线固化性成分为主成分的材料在能量线照射下半固化的层,在上述能量线的照射下、上述能量线固化性成分的双键消失比例为20~90%。
3.权利要求1所述的光记录介质制造用片材,其特征在于,上述能量线固化性层是以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分的材料半固化的层。
4.权利要求1所述的光记录介质制造用片材,其特征在于,上述基材的与上述能量线固化性层相接触的面的表面粗糙度(Ra)为0.1μm以下。
5.权利要求1所述的光记录介质制造用片材,其特征在于,上述能量线固化性层的两面均层合有基材,上述两基材的与上述能量线固化性层相接触的面的表面粗糙度(Ra)为0.1μm以下。
6.权利要求1所述的光记录介质制造用片材,其特征在于,上述能量线固化性层是形成光记录介质保护层的层。
7.权利要求1所述的光记录介质制造用片材,其特征在于,上述能量线固化性层是形成压模接受层的层。
8.光记录介质制造用片材的制造方法,其特征在于,在基材上涂布以能量线固化性成分为主成分的组合物,用能量线照射所得涂膜,使上述能量线固化性成分半固化,形成粘接力为10mN/25mm以上的能量线固化性层。
9.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法,其特征在于,在上述涂膜上粘附另一基材后,照射能量线。
10.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法,其特征在于,在上述形成的能量线固化性层上粘附另一基材。
11.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法,其特征在于,上述能量线固化性成分含有聚合性双键,通过上述能量线的照射,使上述双键消失20~90%。
12.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法,其特征在于,上述能量线固化性成分以能量线固化性单体和/或低聚物为主成分。
13.权利要求8所述的光记录介质制造用片材的制造方法,其特征在于,以上述能量线固化性成分为主成分的组合物不含有溶剂。
14.光记录介质的制造方法,其特征在于,使权利要求1所述的光记录介质制造用片材的能量线固化性层的一面呈露出状态,将上述能量线固化性层的露出面粘附在光记录介质的记录层上,用能量线照射上述能量线固化性层,使上述能量线固化性层固化,由此形成保护层。
15.光记录介质的制造方法,其特征在于,使权利要求1所述的光记录介质制造用片材的能量线固化性层的一面呈露出状态,将上述能量线固化性层的露出面粘附在光记录介质的记录层上,并使上述能量线固化性层的另一面露出,在该露出面上压合压模,用能量线照射上述能量线固化性层,使上述能量线固化性层固化后,将上述压模剥离,由此形成转印、固定有上述压模的凹凸图案的压模接受层。
16.光记录介质,其特征在于,使用权利要求1所述的光记录介质制造用片材制造而成。
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