[发明专利]位移测量系统、光刻设备、位移测量方法和装置制造方法有效

专利信息
申请号: 200710102990.X 申请日: 2007-05-08
公开(公告)号: CN101071276A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: B·A·J·卢蒂克休斯;H·H·M·科克斯;E·R·卢普斯特拉;E·A·F·范德帕施;H·K·范德舒特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;王小衡
地址: 荷兰费*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 位移 测量 系统 光刻 设备 测量方法 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种配置为测量第一部件相对于基准部件的位移的位移测量系统, 包括:

第一、第二、第三和第四目标,每个目标被安装到所述基准部件上并 且被布置使得每个目标的目标表面基本上平行于基准面;以及

第一、第二、第三和第四位移传感器,每个位移传感器被布置成测量 所述第一部件的相应部分相对于相应目标的目标表面的位移;

其中所述第一和第三位移传感器被配置为分别测量沿基本上平行于 位于所述基准面内的第一方向的方向的所述第一部件的第一和第三部分 相对于所述第一和第三目标的目标表面的位移;以及

所述第二和第四位移传感器被配置为分别测量沿基本上平行于位于 所述基准面内的第二方向并且基本上垂直于所述第一方向的方向的所述 第一部件的第二和第四部分相对于所述第二和第四目标的目标表面的位 移。

2.一种光刻设备,包括:

第一位移测量系统,该第一位移测量系统是按照权利要求1的被配置 为测量第一部件相对于基准部件的位移的位移测量系统,其中所述第一部 件是被构造为支撑衬底的衬底台,并且其中所述第一位移测量系统被布置 成至少在将图案转移到所述衬底的过程期间测量所述衬底台相对于基准 部件的位移;以及

第二位移测量系统,被布置成在所述将图案转移到所述衬底的过程之 前至少在执行所述衬底的一次或多次测量和检查的过程期间测量所述衬 底台相对于所述基准部件的位移,所述第二位移测量系统包括:

第五、第六、第七和第八目标,每个目标被安装到所述基准部件并且 被布置使得每个目标的目标表面基本上平行于所述基准面;以及

所述第一位移测量系统的第一、第二、第三和第四位移传感器;

其中所述第一和第三位移传感器被配置为分别测量沿基本上平行于 所述第一方向的方向的所述衬底台的第一和第三部分相对于第五和第七 目标的目标表面的位移;以及,

其中所述第二和第四位移传感器被配置为分别测量沿基本上平行于 所述第二方向的方向的所述衬底台的第二和第四部分相对于第六和第八 目标的目标表面的位移。

3.如权利要求2所述的光刻设备,其中布置所述第一和第二位移测 量系统,使得当所述衬底台从所述第二位移测量系统测量所述衬底台相对 于所述基准部件的位移的计量位置移至所述第一位移测量系统测量所述 衬底台相对于所述基准部件的位移的图案转移位置时,所述第一、第二、 第三和第四位移传感器的至少其中三个总是能够测量所述衬底台相对于 目标的目标表面的位移。

4.如权利要求3所述的光刻设备,其中在所述衬底台在移动方向上 移动期间分别布置所述第一和第二位移测量系统使得基本上平行于所述 基准面的所述衬底台的移动方向上的任何位移传感器对的间距不同于将 由所述位移传感器跨越的相邻目标之间的一对边界的所述移动方向上的 间距。

5.如权利要求2所述的光刻设备,还包括一个或多个附加目标,每 个附加目标被安装到所述第一和第二位移系统的目标之间的所述基准部 件上并且使得所述一个或多个附加目标的每一个的目标表面基本上平行 于所述基准面,

其中布置所述光刻设备,使得所述衬底台在所述第二位移测量系统测 量所述衬底台相对于所述基准部件的位移的计量位置和所述第一位移测 量系统测量所述衬底台相对于所述基准部件的位移的图案转移位置之间 移动期间,所述第一、第二、第三和第四位移测量传感器的至少其中之一 被配置为测量所述衬底台的相应部分相对于所述一个或多个附加目标的 其中之一的目标表面的位移。

6.如权利要求2所述的光刻设备,还包括:

第二衬底台,其被构造成支撑衬底,以及

第五、第六、第七和第八位移传感器,每个位移传感器被布置成以对 应于通过所述第一、第二、第三和第四位移传感器的所述衬底台的所述第 一、第二、第三和第四部分的测量的方式分别测量所述第二衬底台的相应 部分相对于所述第一、第二、第三和第四目标的目标表面的位移,或者相 对于第五、第六、第七和第八目标的目标表面的位移。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710102990.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top