[发明专利]涂层结构及其形成方法

权利要求书

1.一种用于金属部件(10)的涂层结构(1，E)，包括：

形成在金属部件(10)上用于使金属部件(10)的表面平滑 化的表面平滑化层(11，13，14)；以及

形成在表面平滑化层(11，13，14)上的氟基膜(12)，并且 氟基膜(12)包括氟硅烷，其特征在于：

表面平滑化层(11，13，14)包括NiP/PTFE复合膜，在该 NiP/PTFE复合膜中，PTFE颗粒被分布在NiP中。

2.根据权利要求1所述的涂层结构(1，E)，其特征在于：

NiP/PTFE复合膜通过无电镀形成。

3.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

PTFE颗粒在NiP/PTFE复合膜中的含有率为7至9wt％。

4.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

PTFE颗粒的颗粒尺寸为0.2至1μm。

5.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

NiP/PTFE复合膜的厚度为5至20μm。

6.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

表面平滑化层(11，13，14)还包括形成在金属部件(10) 上作为粘附层的Ni薄膜(13)；以及

NiP/PTFE复合膜形成在Ni薄膜(13)上。

7.根据权利要求6所述的涂层结构(1，E)，其特征在于：

Ni薄膜(13)的厚度为0.5至1.5μm。

8.根据权利要求6所述的涂层结构(1，E)，其特征在于：

表面平滑化层(11，13，14)还包括形成在Ni薄膜(13)上 作为接地层的NiP膜(14)；以及

NiP/PTFE复合膜形成在NiP膜(14)上。

9.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

表面平滑化层(11，13，14)还包括形成在金属部件(10) 上作为接地层的NiP膜(14)；以及

NiP/PTFE复合膜形成在NiP膜(14)上。

10.根据权利要求9所述的涂层结构(1，E)，其特征在于：

NiP膜(14)的厚度为0.5至1.5μm。

11.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

其上形成NiP/PTFE复合膜的表面的表面粗糙度(Rz)不大于 5μm。

12.根据权利要求1或2所述的涂层结构(1，E)，其特征在 于：

NiP/PTFE复合膜的表面粗糙度(Rz(11))不大于0.1μm。

13.一种用于金属部件(10)的涂层结构(1，E)，包括：

形成在金属部件(10)上用于使金属部件(10)的表面平滑 化的表面平滑化层(11，13，14)；以及

形成在表面平滑化层(11，13，14)上的氟基膜(12)，并且 氟基膜(12)包括氟硅烷，其特征在于：

表面平滑化层(11，13，14)包括类金刚石膜。

14.根据权利要求13所述的涂层结构(1，E)，其特征在于：

类金刚石膜通过选自等离子CVD、溅射、以及离子镀中的方 法形成。

15.根据权利要求13或14所述的涂层结构(1，E)，其特征 在于：

类金刚石膜的厚度为0.5至5μm。

16.根据权利要求13或14所述的涂层结构(1，E)，其特征 在于：

其上形成类金刚石膜的表面的表面粗糙度(Rz)不大于10μm。