[发明专利]用于薄膜沉积的旋转式蒸发器及使用其的薄膜沉积装置无效
申请号: | 200710103759.2 | 申请日: | 2007-05-23 |
公开(公告)号: | CN101109067A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 金庚皓 | 申请(专利权)人: | 株式会社细美事 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 韩国忠清南*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 薄膜 沉积 旋转 蒸发器 使用 装置 | ||
1.一种用于薄膜沉积的旋转式蒸发器,该蒸发器包含:
具有开口的上表面、内部填充沉积原料的熔炉;
加热熔炉的加热单元;以及
利用外部供应的预定电力使蒸发器旋转的旋转单元。
2.根据权利要求1所述的旋转式蒸发器,其特征是该旋转单元具有位于蒸发器下端的转动轴及连接在所述转动轴上的马达。
3.根据权利要求1所述的旋转式蒸发器,其特征是该旋转单元通过连接位于蒸发器下端的转动轴和传送带使蒸发器旋转。
4.根据权利要求1所述的旋转式蒸发器,其特征是该旋转单元通过利用位于蒸发器下端的转动轴及锯齿形螺钉使蒸发器旋转。
5.使用旋转式蒸发器的薄膜沉积装置,该装置包含:
接受沉积的基板;
与基板连接的掩膜,用以覆盖基板的一部分使之免受沉积并使基板上需要的部分进行沉积;
支承基板和掩膜的基板夹具系统;以及
利用旋转单元进行旋转的蒸发器,
其中该蒸发器包含具有开口的上表面、内部填充沉积原料的熔炉,已经加热熔炉的加热单元。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社细美事,未经株式会社细美事许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710103759.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基站装置以及无线发送方法
- 下一篇:一种水床板
- 同类专利
- 专利分类