[发明专利]基板固定盘清洗单元、清洗装置及清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种基板固定盘的清洗单元、清洗装置及清洗方法，尤其涉及用于清除基板固定盘上表面的杂质的基板固定盘清洗单元、清洗装置及清洗方法，该基板固定盘用于固定基板以进行在基板上涂敷光刻胶等多种基板处理作业。

背景技术

通常，在基板上涂敷光刻胶的方法包含：将光刻胶承载于圆柱形滚子的外部之后在基板上沿一定方向滚动所述滚子而涂敷光刻胶的滚涂方法；在圆板支撑体上放置基板并向所述基板的中央滴落光刻胶之后进行旋转，由此根据离心力在基板上涂敷光刻胶的旋涂方法；通过狭缝形态的喷嘴将光刻胶喷到基板，同时沿一定方向扫过基板而进行涂敷的狭缝涂敷方法。

在上述涂敷方法中，由于滚动式涂敷方法难以精密控制光刻胶膜的均匀性及膜厚度，因此形成高精密图案时使用旋涂方法。但是，旋涂方法适合在芯片等大小较小的基板上涂敷感光物质时使用，而不适用于液晶显示面板用玻璃基板等大小和重量都大的平板显示装置用基板。这是因为基板越大越重就越难以高速旋转基板，而且进行高速旋转时基板越容易损坏而且能量消耗也越大。基于这些理由，在大型玻璃基板上涂敷光刻胶时主要使用狭缝涂敷方法。

图1为一般的狭缝涂敷机的结构示意图，图2为从图1所示的狭缝涂敷机的基板固定盘上清除杂质的状态剖面图。

如图1所示，一般的狭缝涂敷机100包含：用于固定装载基板GS的基板固定盘102；将光刻胶PR涂敷在基板GS上的狭缝喷嘴110；支撑所述狭缝喷嘴110两侧使狭缝喷嘴110沿纵向前进的一对喷嘴移送单元120；贴附在所述喷嘴移送单元一侧的光刻胶供应部115；从所述光刻胶供应部115向所述狭缝喷嘴110移送光刻胶PR的第一光刻胶供应管116；向所述光刻胶供应部115供应光刻胶PR的第二光刻胶供应管117。

所述狭缝喷嘴110是长条状喷嘴，与基板GS相对的狭缝喷嘴的下端中央形成微细的狭缝形状的喷出口，通过所述喷出口将一定量的光刻胶PR喷到基板上。所述光刻胶供应部115是向所述狭缝喷嘴110供应光刻胶PR并向所供应的光刻胶PR施加预定压力而喷出光刻胶PR的单元。通常，所述光刻胶供应部115包含泵，从而向狭缝喷嘴110施加一定压力，并根据该压力将储藏在狭缝喷嘴中的光刻胶PR喷到基板上。

如上所述的狭缝涂敷机的所述狭缝喷嘴110，在从基板一端以一定速度沿纵向前进的同时向基板GS喷出光刻胶PR，从而在基板GS上均匀涂敷光刻胶PR。

此时，所述基板固定盘102利用真空对所述基板GS进行固定装载。为此，所述基板固定盘102的表面形成由多个槽构成的微雕图案103。所述微雕图案103通过多个沿横向及纵向形成的直线槽大致呈格子形状(附图中为了明确表示所述微雕图案103的形状而多少进行夸张显示)。所述横向及纵向直线槽交叉的交点分别形成垂直真空孔103h。所述垂直真空孔103h的下端连接于真空泵(未图示)，从而在所述微雕图案103的直线槽内形成真空而固定基板。

如此，由于用于固定装载基板GS的基板固定盘102上将频繁地装载及卸载基板，而且所述微雕图案的槽内形成真空，因此基板固定盘102的上表面及微雕图案103的槽内容易残留杂质。这些杂质需要定期进行清理。

为此，以往由工作人员利用基板固定盘清洗用抹布(wiper)30以手工方式直接清洗基板固定盘102上表面，因此非常繁琐。尤其，随着基板越来越大型化基板固定盘的大小也变得大型化，因此通过手工方法进行所述清洗作业变得没有效率。

特别是，当所述微雕图案103的槽内有杂质时，利用所述清洗用抹布30进行清除存在局限性。尤其，所述微雕图案103的上部棱线部分，即基板固定盘102的上表面与微雕图案103的槽相交的部分形成角度，因此如果该部分与所述清洗用抹布30发生摩擦，则可能因所述清洗用抹布30被磨损而产生更多杂质。

发明内容

本发明是为了解决如上所述的问题而提出的，其目的在于提供一种基板固定盘清洗单元、清洗装置及清洗方法，从而在清除基板固定盘上的杂质时省略手动作业并进行精密的清洗作业，而且在大型基板固定盘上也可以进行有效的清洗作业。

为了实现上述目的，本发明实施方式所提供的基板固定盘清洗单元，包含：主体；形成在所述主体并向所述基板固定盘喷射清洗剂的喷射孔，以用于分离所述基板固定盘上的杂质；从所述喷射孔分开预定距离的吸入孔，以用于吸入由所述清洗剂分离的杂质。

并且，所述吸入孔最好围绕所述喷射孔形成为多个。

并且，所述清洗剂可以包含非反应气体或升华性固体粒子。此时，所述升华性固体粒子最好包含干冰。