[发明专利]彩色滤光基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种半导体结构及其制造方法，且特别是有关于一种彩色滤光基板及其制造方法。

背景技术

由于显示器的需求与日俱增，因此业界全力投入相关显示器的发展。其中，又以阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)因具有优异的显示品质与技术成熟性，因此长年独占显示器市场。然而，近来由于绿色环保概念的兴起对于其能源消耗较大与产生辐射量较大的特性，加上产品扁平化空间有限，因此无法满足市场对于轻、薄、短、小、美以及低消耗功率的市场趋势。因此，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)已逐渐成为市场的主流。

薄膜晶体管液晶显示器主要由液晶显示面板(LCD pannel)与一背光模组(back light module)所构成，其中，液晶显示面板主要由薄膜晶体管阵列基板(thin film transistor array substrate)、彩色滤光基板(color filter substrate)和配置在两基板之间的液晶层(liquid crystal layer)所构成。此外，背光模组用以提供此液晶显示面板所需的面光源，以使薄膜晶体管液晶显示器达到显示的效果。

更详细而言，彩色滤光基板通常由基板、黑矩阵(black matrix，BM)、彩色滤光层(color filter layer)、共通电极层(common electrode layer)、透明导电层、配向凸起物以及间隔物(spacer)所构成。其中，彩色滤光层包括绿色滤光层、蓝色滤光层以及红光滤光层。因此，此种彩色滤光基板需要七道步骤才能完成。此外，配向凸起物也会造成漏光的现象而降低显示对比。

发明内容

本发明为解决现有技术存在的上述问题而提供一种彩色滤光基板的制造方法，以改善显示品质。

本发明还提供一种彩色滤光基板，其具有较佳的显示对比。

本发明所提出的一种彩色滤光基板的制造方法，其包括下列步骤。提供一基板，并在基板上形成一彩色滤光层。在基板上形成一共通电极层，以覆盖彩色滤光层。在共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸起，而部分遮光层位于彩色滤光层上方，且配向凸起位于彩色滤光层上方。遮光层的材质为负型光刻胶材料，而配向凸起的材质为光刻胶材料，且配向凸起的光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，遮光层与配向凸起为同时形成，且配向凸起与遮光层的材质相同。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，形成遮光层与配向凸起的步骤包括在共通电极层上形成遮光层。然后，在共通电极层上形成配向凸起，其中配向凸起的材质为正型光刻胶。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，形成遮光层与配向凸起之后，彩色滤光基板的制造方法还包括在遮光层上形成多个间隔物。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，配向凸起含有染料或遮光材质。

在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，遮光材质包括氧化钛。

本发明所提出的一种彩色滤光基板，其包括一基板、一彩色滤光层、一共通电极层、一遮光层、多个配向凸起，其中彩色滤光层配置于基板上。共通电极层配置于基板上，并覆盖彩色滤光层。遮光层配置于共通电极层上，且部分遮光层位于彩色滤光层上方，其中遮光层的材质为负型光刻胶材料。配向凸起配置于共通电极层上，并位于彩色滤光层上方，其中配向凸起的材质为光刻胶材料，且配向凸起的光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率。

在本发明的彩色滤光基板中，配向凸起与遮光层的材质相同。

在本发明的彩色滤光基板中，配向凸起的材质为正型光刻胶。

在本发明的彩色滤光基板中，配向凸起含有染料或遮光材质。

在本发明的彩色滤光基板中，遮光材质包括氧化钛。

在本发明的彩色滤光基板中，彩色滤光基板更包括多个间隔物，其配置于遮光层上。

基于上述，本发明采用光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率的配向凸起物，因此相较于现有技术，此种彩色滤光基板能够降低漏光的现象。此外，当配向凸起物与遮光层为相同材质时，相较于现有技术，此彩色滤光基板所需的掩模数较少。

附图说明

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明，其中：

图1A至图1D是依照本发明的一实施例的一种彩色滤光基板的制造方法的剖面图。

具体实施方式