[发明专利]图像记录方法和图像记录设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种图像记录方法和图像记录设备，在依靠图像数据控制的多个记录元件正在相对图像记录介质移动时，将图像记录到图像介质上。

背景技术

附图26是印刷线路板的制造过程示意图。如图26所示，通过蒸镀(evaporation)等在其上蒸镀有铜箔1的基板2被准备。感光材料制成的光刻胶(photoresist)3通过加热挤压(层压)在铜箔1上。在利用曝光设备使光刻胶3根据线路图曝光后，利用显影液显影光刻胶3。然后，光刻胶3的没有被曝光的部分被去除。通过光刻胶3的去除而曝光的铜箔1被蚀刻溶液蚀刻掉。之后，剩余的光刻胶3被剥离液剥离掉。结果，制造出印刷线路板，该印刷线路板具有以期望线路图的形式而保留在基板2上的铜箔1。

例如，一种用数字微镜装置DMD(digital micromirror device)等空间光调制器作为将线路图记录在光刻胶3上的曝光设备已被设计出(参见日本公开公报No.2005-41105)。该数字微镜装置DMD包括多个以矩阵模式(matrix pattern)可倾斜地设置在静态存储单元(SRAM cells，memorycells)上的微镜(micromirror)。该微镜具有相应的反射表面，该反射表面的上面沉积(deposit)有铝等高反射材料。当与图像数据相应的数字信号被写进静态存储单元时，对应的微镜在取决于数字信号的设定方向上倾斜，选择性地打开和关闭光束，并将打开的光束引导到光刻胶。

在日本专利公开公报No.2005-41105中公开的曝光设备中，具有层压光刻胶3的基板2在一方向上移动，具有数字微镜装置DMD的多个曝光头引导光束到基板2因而利用曝光将高精度两维线路图快速地记录在基板2上，所述数字微镜装置DMD以与层压光刻胶3移动的方向垂直的方向排列。

如果在曝光设备的曝光过程开始时用于发射光束的光源的温度与在曝光过程结束时的光源的温度彼此不同时，那么由光源发射的光束的光量(amount of light)趋向于随时间变化，可能会导致由于沿基板2移动方向的光量的变化而引起的曝光不规则(exposure irregularity)。

基板2放置在可移动的台子上，该台子将热传递到基板2以便加热基板2。由于在热被从可移动的台子传递到基板2以前需要一定时间，在曝光过程开始时放置在可移动台子上的基板2的表面温度与在曝光过程结束时放置在可移动台子上的基板2的表面温度彼此不同。因为由于上述温度的变化引起光刻胶3敏感度变化，会造成沿基板2的移动方向形成的线路图的不规则。

当其上放置有基板2的可移动的台子移动时，曝光头和基板2之间的距离就变化。此时，引导向基板2的光束的直径同样会变化，易于导致沿基板2的移动方向形成的线路图的不规则。

此外，如果显影设备在基板2上执行的显影过程遭受显影设备导致的不规则时，那么这些不规则就表现为线路图的不规则。

发明内容

本发明的一个总体目的是提供一种图像记录方法和图像记录设备，通过校正沿记录元件相对图像记录介质移动的方向出现的定域性(locality)，将所期望的图像高精确地记录在图像记录介质上。

本发明的一个主要目的是提供一种用于将所期望的图像高精确地记录在图像记录介质的整个两维表面上的方法和设备。

根据结合附图的以下说明，本发明的上述和其它目的，特征和优点将变得更明显。在该说明中，通过示例显示了本发明的较佳实施例。

附图说明

图1是根据本发明的实施例的曝光设备的立体图；

图2根据实施例的曝光设备的曝光头的示意图；

图3是显示图2的曝光头中使用的数字微镜装置(DMD)的局部放大图；

图4是图2的曝光头执行的曝光记录过程的示意图；

图5是显示图2的曝光头的数字微镜装置DMD和设置在数字微镜装置DMD中的掩模数据的图；

图6是显示实施例的曝光设备的记录位置和光量之间的关系图；

图7是显示当图6中的光量定域性未经校正时所记录的线宽(line width)图；

图8是显示当图6中的光量定域性被校正时所记录的线宽图；

图9是实施例的曝光设备的控制电路框图；

图10是设定实施例的曝光设备所执行的掩模数据的过程的流程图；

图11是显示由实施例的曝光设备在基板上记录的矩形图所组成的测试图；

图12是显示图11的矩形图的位置和所测量的线宽之间的关系图；